特許

J-GLOBAL ID：200903075613030277

洗浄装置及び半導体装置の製造装置

発明者： 内山 茂行 ,  羽場 智寛 ,  田畑 吉和
出願人/特許権者： アピックヤマダ株式会社
代理人 (1件)： 藤元 亮輔
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-396643
公開番号（公開出願番号）：特開2005-152817
出願日： 2003年11月27日
公開日（公表日）： 2005年06月16日
要約：

【課題】 洗浄ローラに残留付着するコンタミを除去して洗浄機能を高く維持すると共に、洗浄ローラの損耗を防いで洗浄ローラの交換頻度を抑え、スループットに優れた装置の実現を可能にする洗浄装置及び半導体装置の製造装置を提供する。【解決手段】 洗浄ローラの表面に洗浄水を供給し、吸水した前記洗浄ローラの表面をワーク表面に押圧してワーク表面を洗浄する洗浄装置において、当該洗浄ローラの表面に前記洗浄水を噴射して供給する洗浄水噴射機構を備えたことを特徴とする洗浄装置を提供する。【選択図】 図2

請求項（抜粋）：

洗浄ローラの表面に洗浄水を供給し、吸水した前記洗浄ローラの表面をワーク表面に押圧してワーク表面を洗浄する洗浄装置において、 当該洗浄ローラの表面に前記洗浄水を噴射して供給する洗浄水噴射機構を備えたことを特徴とする洗浄装置。

IPC (3件)：

B08B7/04 ,  B08B1/04 ,  B08B3/02

FI (3件)：

B08B7/04 A ,  B08B1/04 ,  B08B3/02 A

Fターム (15件)：

3B116AA02 ,  3B116AB13 ,  3B116AB47 ,  3B116BA08 ,  3B116BA14 ,  3B116BB22 ,  3B116CC03 ,  3B201AA02 ,  3B201AB13 ,  3B201AB47 ,  3B201BA08 ,  3B201BA14 ,  3B201BB22 ,  3B201BB92 ,  3B201CC14

引用特許：

出願人引用 (1件)

• ワークの洗浄装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-212530   出願人：アピックヤマダ株式会社

審査官引用 (5件)

• 洗浄部材のセルフクリーニング装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-150513   出願人：株式会社荏原製作所
• ロールブラシ洗浄装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-307056   出願人：東京エレクトロン株式会社
• 基板洗浄装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-232404   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• ワークの洗浄装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-212530   出願人：アピックヤマダ株式会社
• ウェハの洗浄方法、洗浄装置およびダイシング装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-008966   出願人：ソニー株式会社