特許

J-GLOBAL ID：200903075664989838

水供給方法および水供給装置

発明者： 小林 直昭 ,  山口 隆太 ,  田島 かおり ,  織 浩介 ,  砂金 養一 ,  野尻 一男
出願人/特許権者： ラムリサーチ株式会社
代理人 (1件)： 萩原 誠
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-136159
公開番号（公開出願番号）：特開2003-332288
出願日： 2002年05月10日
公開日（公表日）： 2003年11月21日
要約：

【要約】【課題】 レジスト膜等の不用物の剥離・除去能力が高く、効率がよくコスト低減のできる水供給方法および装置を提供する。【解決手段】 対象物の洗浄/剥離/加工のいずれかを含む処理を行うために水を供給する水供給方法であって、水からドライスチームを生成するためのドライスチーム生成ステップと、1)ドライスチームを、または、2)ドライスチームとミストの混合物を、前記対象物の平板状の対象処理面にノズルから吹き付ける吹付けステップと、を備え、対象物に水供給が行われる水供給方法とした。

請求項（抜粋）：

対象物の洗浄/剥離/加工のいずれかを含む処理を行うために水を供給する水供給方法であって水からドライスチームを生成するためのドライスチーム生成ステップと、1)ドライスチームを、または、2)ドライスチームとミストとを混合して、前記対象物の平板状の対象処理面にノズルから吹き付ける吹付けステップと、を備え、前記対象物に水供給が行われる、ことを特徴とする水供給方法。

IPC (3件)：

H01L 21/304 645 ,  B08B 3/02 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

H01L 21/304 645 B ,  B08B 3/02 B ,  H01L 21/30 572 B

Fターム (8件)：

3B201AA02 ,  3B201AA03 ,  3B201AB34 ,  3B201BB13 ,  3B201BB38 ,  3B201BB93 ,  5F046MA01 ,  5F046MA05

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 半導体ウエハを洗浄する装置と方法
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2000-533235   出願人：ガンマ・プレシジョン・テクノロジー・インコーポレイテッド
• レジスト膜除去装置及びレジスト膜除去方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-067782   出願人：ユーシーティー株式会社
• 洗浄用2流体ジェットノズル及び洗浄装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-321963   出願人：三菱電機株式会社, 大陽東洋酸素株式会社