基板処理システム

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小谷悦司 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-121331
公開番号（公開出願番号）：特開平11-309409
出願日： 1998年04月30日
公開日（公表日）： 1999年11月09日
要約：

【要約】【課題】塗布処理などの基板処理工程の搬送経路途中にエッジリンス処理を含ませて設置スペースの共用化を図ることで、システム全長の短縮化を図る。【解決手段】基板保持ステージ3a,3bから基板払出位置側の基板回動手段上に移送される、基板供給時に180度方向転換した基板7のみ基板回動手段でさらに180度方向転換させて元に戻すことで全ての基板方向を揃えてエッジリンス処理装置で基板端縁処理を行うため、従来、次工程に設けていたエッジリンス処理(端縁処理)を塗布処理2a,2bなどの基板処理工程の搬送経路途中に設けることができて設置スペースの共用化を図ることができ、システム全長を短縮化することができる。

請求項（抜粋）：

垂直または傾斜姿勢の基板に対して処理を施す第1の基板処理手段と、該第1の基板処理手段の処理中に当該基板を前記垂直または傾斜姿勢で保持するとともに、処理後に当該基板を所定姿勢に姿勢変換する第1の姿勢変換手段と、垂直または傾斜姿勢の基板に対して処理を施す第2の基板処理手段と、該第2の基板処理手段の処理中に当該基板を前記垂直または傾斜姿勢で保持するとともに、処理後に当該基板を所定姿勢に姿勢変換する第2の姿勢変換手段と、前記第1および第2の姿勢変換手段から前記所定姿勢の基板を受け入れて保持する第1の受入手段と、該第1の受入手段から基板を受け入れて保持する第2の受入手段と、該第2の受入手段を回動させることにより第2の受入手段により保持した基板を当該基板面内において回動可能な基板回動手段と、を有することを特徴とする基板処理システム。

IPC (6件)：

B05C 13/02 , B05C 5/00 , G02F 1/00 , G03F 7/00 , H01L 21/68 , B65G 49/06

FI (6件)：

B05C 13/02 , B05C 5/00 , G02F 1/00 , G03F 7/00 , H01L 21/68 A , B65G 49/06 Z

引用特許：

審査官引用 (7件)

基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-171048 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
特開平4-085812
位置決め装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-151566 出願人：株式会社ニコン

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