特許
J-GLOBAL ID:200903075804091802
純水製造方法及び装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
熊谷 隆 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-003315
公開番号(公開出願番号):特開2001-191070
出願日: 2000年01月12日
公開日(公表日): 2001年07月17日
要約:
【要約】【課題】 電気式脱塩装置を用い非再生式で連続運転可能で、環境負荷が軽減でき、且つ発電プラント用及び半導体デバイス製造工程用の使用条件を満たす高純度の純水を製造できる純水製造方法及び装置を提供すること。【解決手段】 少なくとも脱気膜装置5と電気式脱塩装置6を具備し、該脱気膜装置5で前処理された被処理水を前記電気式脱塩装置6に通水させて純水を製造する純水製造装置であって、電気式脱塩装置6は正負の両電極間に陽イオン交換膜及び陰イオン交換膜を少なくとも一部交互に配列することによって脱塩室と濃縮室とが形成されており、少なくとも脱塩室にはイオン交換体が充填された構成であり、脱気膜装置5はその処理水中に含まれる全無機炭素の濃度が300μg/リットル以下にする処理機能を具備する。
請求項(抜粋):
正負の両電極間に陽イオン交換膜及び陰イオン交換膜を少なくとも一部交互に配列することによって脱塩室と濃縮室とが形成されており、少なくとも脱塩室にはイオン交換体が充填されている電気式脱塩装置に前処理された被処理水を通水させ純水を製造する純水製造方法であって、前記被処理水はその中に含まれる全無機炭素の濃度を300μg/リットル以下に前処理されたものであることを特徴とする純水製造方法。
IPC (4件):
C02F 1/42
, B01D 61/44 500
, B01D 61/48
, B01D 61/52 500
FI (5件):
C02F 1/42 B
, C02F 1/42 A
, B01D 61/44 500
, B01D 61/48
, B01D 61/52 500
Fターム (32件):
4D006GA17
, 4D006GA32
, 4D006JA53Z
, 4D006KA01
, 4D006KA26
, 4D006KB11
, 4D006KB12
, 4D006KB14
, 4D006MA13
, 4D006MA14
, 4D006MB03
, 4D006MB07
, 4D006PA01
, 4D006PB02
, 4D006PB27
, 4D006PB28
, 4D006PC03
, 4D006PC31
, 4D006PC32
, 4D025AA03
, 4D025AB16
, 4D025AB18
, 4D025AB19
, 4D025BA08
, 4D025BA13
, 4D025BA27
, 4D025BB03
, 4D025DA01
, 4D025DA03
, 4D025DA05
, 4D025DA06
, 4D025DA10
引用特許:
審査官引用 (9件)
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特開平2-040221
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脱炭酸装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-085200
出願人:栗田工業株式会社
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膜脱気装置の能力診断方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-282968
出願人:株式会社サムソン
-
膜脱気装置の運転方法及び膜脱気装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-232479
出願人:栗田工業株式会社, 株式会社サムソン
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特開平2-040221
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特開昭62-101896
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純水の製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-065525
出願人:栗田工業株式会社
-
脱イオン水製造装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-287054
出願人:オルガノ株式会社
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特開平2-040221
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