特許
J-GLOBAL ID：200903075842131346
干渉測定法による試料測定
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
恩田 博宣
, 恩田 誠
, 本田 淳
, 池上 美穂
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-543729
公開番号（公開出願番号）：特表2009-518088
出願日： 2006年12月06日
公開日（公表日）： 2009年05月07日
要約：
本発明は、試料特に眼の干渉測定のための装置に関し、その装置は試料に入射する測定ビームが通過する第1の測定ビーム経路と、干渉のために測定ビームに適用される参照ビームが通過する第1の参照ビーム経路とを含む干渉計装置を備える。干渉計装置は第2の測定ビーム経路および/または第2の参照ビーム経路を備え、これら経路によって、それらの光波長は第1のビーム経路の1つとは異なる。この波長差は、試料の深さ方向に離間して配置される2つの測定領域の距離に従って選択される。
請求項（抜粋）：
試料(P)特に眼(A)の干渉測定装置であって、試料(P)に入射する測定ビームが通過する測定ビーム経路と、測定ビーム上に重ね合わされ、該測定ビームと干渉させられる参照ビームが通過する第1の参照ビーム経路(R)とを含む短コヒーレンス干渉計装置(I)を備え、該干渉計装置(I)が、光経路長が該第1の参照ビーム経路(R1)の光経路長とは異なる少なくとも1つの第2の参照ビーム経路(R2)であって、該経路長差が、該試料(P)の深さ方向に離間した2つの試料領域(5、6、7)の距離に従って選択される、少なくとも1つの第2の参照ビーム経路(R2)と、該検出され、かつ重ね合わされたビームから、該参照ビーム経路(R1、R2)の該経路長差を考慮して、フーリエ・スペクトル分析によって該試料領域(5、6、7)間の該距離を決定する制御デバイス(200)とを備えることを特徴とする干渉測定装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (14件)：
2F064AA09
, 2F064EE01
, 2F064FF03
, 2F064GG02
, 2F064GG12
, 2F064GG13
, 2F064GG17
, 2F064GG22
, 2F064GG23
, 2F064GG49
, 2F064HH02
, 2F064HH07
, 2F064HH10
, 2F064JJ15
