特許
J-GLOBAL ID：200903075977740067

試料検査装置及び試料検査方法

発明者：
舘野 元就

舘野 元就 について

, 
木邑 正儀

木邑 正儀 について


出願人/特許権者：
アドバンスド・マスク・インスペクション・テクノロジー株式会社

アドバンスド・マスク・インスペクション・テクノロジー株式会社 について


代理人 (3件)： 松山 允之 ,  河西 祐一 ,  池上 徹真
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-085253
公開番号（公開出願番号）：特開2006-266864
出願日： 2005年03月24日
公開日（公表日）： 2006年10月05日
要約：
【目的】 2次元の補正が可能なレチクル検査装置を提供することを目的とする。【構成】 レチクル101上のX座標位置を測定するX軸レーザ干渉計201とX軸レーザスケール202と、前記レチクル101上のY座標位置を測定するY軸レーザ干渉計211とY軸レーザスケール212と、前記レチクル101上の光学画像を取得する光学画像取得部となるレーザ光学装置103、及び透過光検出部105等と、前記レチクル101上の複数の所定の位置における設計上のXY座標と前記X軸レーザ干渉計201とX軸レーザスケール202と前記Y軸レーザ干渉計211とY軸レーザスケール212とにより測定される前記複数の所定の位置のXY座標とに基づいて、前記光学画像取得部により取得された前記光学画像の位置を補正する光学画像補正部140と、補正された位置で前記光学画像と所定の参照画像とを比較する画像比較部108と、を備えたことを特徴とする。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
被検査試料上のX座標位置を測定する第1と第2のX座標測定部と、 前記被検査試料上のY座標位置を測定する第1と第2のY座標測定部と、 前記被検査試料上の光学画像を取得する光学画像取得部と、 前記被検査試料上の複数の所定の位置における設計上のXY座標と前記第1と第2のX座標測定部と前記第1と第2のY座標測定部とにより測定される前記複数の所定の位置のXY座標とに基づいて、前記光学画像取得部により取得された前記光学画像の位置を補正する補正部と、 補正された位置で前記光学画像と所定の参照画像とを比較する比較部と、 を備えたことを特徴とする試料検査装置。
IPC (3件)：
G01B 11/24 ,  G03F 1/08 ,  H01L 21/027
FI (3件)：
G01B11/24 F ,  G03F1/08 S ,  H01L21/30 502P
Fターム (35件)：
2F065AA03 ,  2F065AA14 ,  2F065AA20 ,  2F065AA31 ,  2F065AA54 ,  2F065BB02 ,  2F065BB27 ,  2F065CC18 ,  2F065DD11 ,  2F065EE08 ,  2F065EE11 ,  2F065FF01 ,  2F065FF02 ,  2F065FF15 ,  2F065FF41 ,  2F065FF51 ,  2F065FF61 ,  2F065GG04 ,  2F065HH15 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ18 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL04 ,  2F065MM03 ,  2F065NN20 ,  2F065PP13 ,  2F065QQ03 ,  2F065QQ23 ,  2F065QQ24 ,  2F065QQ25 ,  2F065RR08 ,  2F065RR09 ,  2F065TT08 ,  2H095BD20 ,  2H095BD27
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (2件)

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