特許
J-GLOBAL ID：200903058768327061
電子ビーム描画方法及び描画システム
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
鈴江 武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-034115
公開番号（公開出願番号）：特開2002-237445
出願日： 2001年02月09日
公開日（公表日）： 2002年08月23日
要約：
【要約】【課題】 キャラクタプロジェクション方式を効率良く利用することができ、描画スループットの大幅な向上をはかる。【解決手段】 CAD設計システムにより作成した半導体回路のCADデータに基づいて、電子ビーム描画装置を用いて試料上に半導体パターンを描画する電子ビーム描画方法において、電子ビーム描画装置20は、複数のキャラクタパターンが形成されたマスク21を用いて描画することの可能なものであって、CAD設計システム10は、キャラクタパターンの各パターンデータをライブラリとして蓄える記憶装置21を備えており、半導体パターンを作成する際にライブラリのキャラクタパターンを参照し、ライブラリに含まれるキャラクタパターンが当てはまる半導体パターンに対しては、該キャラクタパターンを用いていることを示すデータをCADデータに付加する。
請求項（抜粋）：
複数のキャラクタパターン及び可変成形ビーム用のパターンが形成されたマスクを用いて描画することが可能な電子ビーム描画装置を用い、CAD設計システムにより作成した半導体回路のCADデータに基づいて試料上に半導体パターンを描画する電子ビーム描画方法であって、前記CAD設計システムによりCADデータを作成する際に、前記キャラクタパターンの各パターンデータをライブラリとして格納しておき、該ライブラリに含まれるキャラクタパターンが当てはまる半導体パターンが存在し、この半導体パターンを該キャラクタパターンを用いて描画する場合には、該当する半導体パターンに該キャラクタパターンを用いることを示すデータをCADデータに付加することを特徴とする電子ビーム描画方法。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 504
, G06F 17/50 658
G03F 7/20 504
, G06F 17/50 658 P
, H01L 21/30 541 J
, H01L 21/30 541 Q
, H01L 21/30 541 S
2H097AA12
, 2H097CA16
, 2H097JA02
, 2H097LA10
, 5B046AA08
, 5B046GA06
, 5B046HA05
, 5B046KA06
, 5F056AA04
, 5F056AA06
, 5F056AA31
, 5F056CA05
, 5F056CA11
, 5F056CC12
