特許
J-GLOBAL ID：200903076106773450

医療用荷電粒子照射装置

発明者：
松田 浩二

松田 浩二 について


出願人/特許権者：
株式会社日立製作所

株式会社日立製作所 について


代理人 (1件)： 春日 讓
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-292559
公開番号（公開出願番号）：特開2004-121654
出願日： 2002年10月04日
公開日（公表日）： 2004年04月22日
要約：
【課題】他のビーム偏向手段を大型化することなく、コスト低減を図る。【解決手段】荷電粒子を患者の照射対象Pに照射する医療用荷電粒子照射装置において、入射した荷電粒子線ビームを、X方向へビームを曲げて位置をずらすように偏向するX方向走査電磁石101と、このX方向走査電磁石101より下流側に設けられ、X方向走査電磁石101で偏向された荷電粒子線ビームを、X方向へビームの位置のずれを小さくするように偏向するX方向走査電磁石102と、このX方向走査電磁石102より下流側に設けられ、X方向走査電磁石で偏向された荷電粒子線ビームを、Y方向へ偏向するY方向走査電磁石103とを有する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
荷電粒子を患者の患部に照射する医療用荷電粒子照射装置において、 入射した荷電粒子線ビームを、そのビーム進行方向に垂直な平面内における一の方向へビームを曲げて位置をずらすように偏向する第1走査電磁石と、 この第1走査電磁石より下流側に設けられ、前記第1走査電磁石で偏向された荷電粒子線ビームを、前記一の方向へ前記ビームの位置のずれを小さくするように偏向する第2走査電磁石と、 この第2走査電磁石より下流側に設けられ、前記第2走査電磁石で偏向された荷電粒子線ビームを、前記ビーム進行方向に垂直な平面内における前記一の方向と直交する他の方向へ偏向する第3走査電磁石とを有することを特徴とする医療用荷電粒子照射装置。
IPC (3件)：
A61N5/10 ,  G21K1/093 ,  G21K5/04
FI (4件)：
A61N5/10 D ,  G21K1/093 D ,  G21K5/04 A ,  G21K5/04 C
Fターム (4件)：
4C082AA01 ,  4C082AC04 ,  4C082AE01 ,  4C082AG13
引用特許：
審査官引用 (7件)
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