特許
J-GLOBAL ID:200903076227924693

重合体および反射防止膜形成組成物

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 渡邉 一平 ,  木川 幸治 ,  樋口 武
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-178719
公開番号(公開出願番号):特開2005-015532
出願日: 2003年06月23日
公開日(公表日): 2005年01月20日
要約:
【課題】反射防止効果が高く、インターミキシングを生じることがなく、解像度、パターン形状等に優れたレジストパターンを形成しうる反射防止膜形成組成物、および反射防止膜形成組成物の構成成分として有用な重合体を提供する。【解決手段】下記式(1)で表される第一の構造単位と、架橋特性を有する第二の構造単位と、を有している重合体である。【化1】〔式(1)において、R1およびR2は相互に独立に1価の原子または1価の有機基を示す。R3およびR4は水素原子または1価の有機基を示し、mおよびnは0または1〜3の整数である。〕【選択図】 なし
請求項(抜粋):
下記式(1)で表される第一の構造単位と、架橋特性を有する第二の構造単位と、を有していることを特徴とする重合体。
IPC (10件):
C08F232/08 ,  C08F220/28 ,  C08F220/58 ,  C08K5/00 ,  C08L33/14 ,  C08L33/24 ,  C08L45/00 ,  G02B1/11 ,  G03F7/11 ,  H01L21/027
FI (10件):
C08F232/08 ,  C08F220/28 ,  C08F220/58 ,  C08K5/00 ,  C08L33/14 ,  C08L33/24 ,  C08L45/00 ,  G03F7/11 503 ,  H01L21/30 574 ,  G02B1/10 A
Fターム (28件):
2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025DA34 ,  2K009AA02 ,  2K009BB01 ,  2K009CC21 ,  2K009FF01 ,  4J002BG071 ,  4J002BG131 ,  4J002CE001 ,  4J002EQ036 ,  4J002EV216 ,  4J002EV246 ,  4J002EV296 ,  4J002FD206 ,  4J002GQ00 ,  4J002HA01 ,  4J100AL09Q ,  4J100AL10Q ,  4J100AM17Q ,  4J100AR02P ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100DA64 ,  4J100JA01 ,  4J100JA03 ,  5F046PA07
引用特許:
審査官引用 (7件)
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