特許
J-GLOBAL ID:200903076237307110

酸化物超電導電流リードおよびその製造方法並びに超電導システム

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 阿仁屋 節雄 ,  油井 透 ,  清野 仁
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-028451
公開番号(公開出願番号):特開2004-304163
出願日: 2004年02月04日
公開日(公表日): 2004年10月28日
要約:
【課題】 液体窒素冷却で外部磁場0.5Tの下においても、1000A以上の電流を流すことができ、そのときの接触抵抗値が0.5μΩ以下である酸化物超電導電流リードとその製造方法を提供する。【解決手段】 酸化物超電導体60を設置する設置溝31を有する金属電極10、および前記設置溝31に見合うサイズの偏流抑制部材50を作製して接合用金属を熔融塗布しておき、この設置溝31へ、銀コートされ接合用金属を熔融塗布された酸化物超電導体の端部を設置し、接合用金属の流出防止処理を行った後、加熱して接合用金属を熔融させ、さらに真空脱気を行って発泡させ、この泡を偏流抑制部材50を介して機械的衝撃を加えて破裂させ、金属電極10、酸化物超電導体60、および偏流抑制部材50とを空孔を含まない接合用金属で接合し、さらに被覆部材70で酸化物超電導体60を被覆して電流リード1を製造した。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
酸化物超電導体の両側に金属電極が設けられ、且つ前記酸化物超電導体と前記金属電極とが形成する接合部分に接合用金属が設けられ、前記接合用金属によって、前記酸化物超電導体と前記金属電極とが接合されている酸化物超電導電流リードであって、 前記接合部分に設けられた前記接合用金属中の空孔の体積が、前記接合部分の容積の5%以下であることを特徴とする酸化物超電導電流リード。
IPC (4件):
H01L39/04 ,  H01B12/02 ,  H01B13/00 ,  H01F6/00
FI (4件):
H01L39/04 ,  H01B12/02 ,  H01B13/00 565D ,  H01F7/22 J
Fターム (15件):
4M114AA02 ,  4M114AA17 ,  4M114AA19 ,  4M114AA29 ,  4M114BB01 ,  4M114BB04 ,  4M114CC05 ,  4M114DA54 ,  4M114DB02 ,  5G321AA01 ,  5G321AA02 ,  5G321BA05 ,  5G321CA02 ,  5G321DA08 ,  5G321DB29
引用特許:
出願人引用 (1件)
  • 実開昭63-200307号公報
審査官引用 (4件)
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