特許
J-GLOBAL ID：200903076260982968
エキシマレ-ザ-用光学石英ガラスの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
服部 平八
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-371084
公開番号（公開出願番号）：特開2000-191329
出願日： 1998年12月25日
公開日（公表日）： 2000年07月11日
要約：
【要約】【目的】エキシマレーザー光に対して高い透過性を有し、かつ耐レーザー性に優れた大型のエキシマレーザー用光学石英ガラスの製造方法を提供すること。【解決手段】高純度の揮発性珪素化合物を火炎加水分解して生成するすす状シリカを基体上に堆積させて多孔質シリカ母材を形成する工程、該多孔質シリカ母材を酸化性雰囲気中で加熱し透明ガラス化し石英ガラス体を得る工程、及び還元性雰囲気中で熱処理する工程を含むことを特徴とするエキシマレーザー用光学石英ガラスの製造方法。
請求項（抜粋）：
高純度の揮発性珪素化合物を火炎加水分解して生成するすす状シリカを基体上に堆積させて多孔質シリカ母材を形成する工程、該多孔質シリカ母材を酸化性雰囲気中で加熱し透明ガラス化し石英ガラス体を得る工程、及び還元性雰囲気中で熱処理する工程を含むことを特徴とするエキシマレーザー用光学石英ガラスの製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C03B 8/04 P
, C03B 20/00 E
