特許
J-GLOBAL ID：200903076272141608
塗布装置および塗布方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
梁瀬 右司
, 振角 正一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-251239
公開番号（公開出願番号）：特開2004-089771
出願日： 2002年08月29日
公開日（公表日）： 2004年03月25日
要約：
【課題】塗布領域に塗布液を精度良く塗布する。【解決手段】マスク4を試塗位置に配置してノズル5をX方向に往復移動させながらマスク4に向けて有機EL材料を吐出させて塗布軌跡CLをマスク4の内周面上に形成し、この塗布軌跡CLをCCDカメラ81、82で撮像する。また、マスク4を塗布位置に配置して基板1の溝11の光学像I11をCCDカメラ81、82で撮像する。そして、それらの撮像結果に基づき塗布軌跡CLと溝11とが対応するように基板1を位置決めした後、溝11に対する有機EL材料の塗布処理を実行する。ここで、ノズル5からの有機EL材料の吐出を、塗布軌跡CLの形成開始から溝11に対する有機EL材料の塗布終了まで、一定流量で途切れることなく継続して行う。【選択図】 図9
請求項（抜粋）：
基板とノズルとを相対的に移動させながら前記ノズルから塗布液を柱状に連続吐出して前記基板上の塗布領域に塗布する塗布装置において、前記ノズルから前記塗布液を吐出することで形成される塗布軌跡を撮像する撮像手段と、
前記塗布領域への前記塗布液の塗布に先立って、前記撮像手段から出力される前記塗布軌跡に関する塗布軌跡情報に基づき、前記塗布軌跡が前記塗布領域に対応するように、前記基板と前記ノズルとの相対的な位置関係を調整する位置制御手段とを備え、
前記ノズルからの前記塗布液の吐出を、前記塗布軌跡の形成開始から前記塗布領域に対する前記塗布液の塗布終了まで、一定流量で途切れることなく継続して行うことを特徴とする塗布装置。
IPC (7件)：
B05C5/00
, B05B15/04
, B05C11/00
, B05C11/10
, B05D1/26
, B05D1/32
, H05B33/14
B05C5/00 101
, B05B15/04 102
, B05C11/00
, B05C11/10
, B05D1/26 Z
, B05D1/32 B
, H05B33/14 A
3K007AB18
, 3K007DB03
, 3K007FA01
, 4D073AA01
, 4D073DB03
, 4D073DB12
, 4D075AC06
, 4D075AD11
, 4D075DA06
, 4F041AA02
, 4F041AA05
, 4F041AB01
, 4F041BA21
, 4F041BA22
, 4F042AA02
, 4F042AA10
, 4F042BA08
, 4F042BA11
, 4F042DH09
