特許

J-GLOBAL ID：200903076419644619

EUVプラズマ源ターゲット供給方法及び装置

発明者： アルゴッツ ジョン マーティン ,  フォーメンコフ イゴー ヴィー ,  アーショフ アレクサンダー アイ ,  パートロ ウィリアム エヌ ,  サンドストロム リチャード エル ,  ヘムベルイ オスカル ,  ビカノフ アレクサンダー エヌ ,  コブ デニス ダブリュー
出願人/特許権者： サイマー インコーポレイテッド
代理人 (4件)： 熊倉 禎男 ,  大塚 文昭 ,  西島 孝喜 ,  須田 洋之
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-557068
公開番号（公開出願番号）：特表2008-532286
出願日： 2006年02月17日
公開日（公表日）： 2008年08月14日
要約：

磁歪材料又は電歪材料を含むターゲット液滴形成機構と、出力オリフィスで終端する液体プラズマ源材料通路と、液滴形成噴出流又は選択経路に沿って通路を出る個々の液滴に電荷を印加する帯電機構と、出力オリフィスとプラズマ開始部位の中間にあって液滴を選択経路から定期的に偏向させる液滴偏向器と、入力開口部と出力オリフィスとを有する液体ターゲット材料供給通路を含む液体ターゲット材料供給機構と、液体ターゲット材料内で外乱力を発生させる外乱起電力発生機構と、出力オリフィスを有する液体ターゲット供給液滴形成機構と、及び/又は出力オリフィスの周辺の湿潤障壁とを含むことができるEUVプラズマ形成ターゲット供給システム及び方法が開示される。【選択図】図8

請求項（抜粋）：

液体ターゲット材料液滴の形態でターゲット液滴供給毛細管及び/又は出力オリフィスと協働する磁歪材料又は電歪材料を含むターゲット液滴形成機構を含むことを特徴とするEUVプラズマ形成ターゲット供給システム。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  H05G 2/00

FI (2件)：

H01L21/30 531S ,  H05G1/00 K

Fターム (8件)：

4C092AA06 ,  4C092AA15 ,  4C092AB19 ,  4C092AC09 ,  4C092BD05 ,  4C092BD18 ,  4C092BD19 ,  5F046GC03

引用特許：

出願人引用 (9件)

• 米国特許出願第11/021,261号公報
  
• 米国特許出願第10/979,945号公報
  
• 米国特許出願第10/979,919号公報
  
• 米国特許出願第10/900,839号公報
  
• 米国特許出願第10/798,740号公報
  
• 米国特許出願第11/067,073号公報
  
• 米国特許第6,625,191号公報
  
• 米国特許第6,549,551号公報
  
• 米国特許第6,567,450号公報
  

審査官引用 (4件)

• レーザープラズマ発生方法及び装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-080378   出願人：独立行政法人産業技術総合研究所
• 極端紫外光源装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-225124   出願人：株式会社小松製作所, ギガフォトン株式会社
• X線放射線または極紫外線放射線を発生するための方法および装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-036569   出願人：ジェテックアクチボラグ
• 光波発生装置及び光波発生方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-196236   出願人：日本電気株式会社