特許

J-GLOBAL ID：200903076430726198

光学素子、マスター原器、樹脂マスター、樹脂成形品および金型

発明者： 染矢 和昭 ,  前納 良昭
出願人/特許権者： 三洋電機株式会社 ,  三洋オプテックデザイン株式会社
代理人 (1件)： 芝野 正雅
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-109823
公開番号（公開出願番号）：特開2008-268451
出願日： 2007年04月18日
公開日（公表日）： 2008年11月06日
要約：

【課題】金型ないし光学素子の無断複製を円滑に抑制し得る光学素子、マスター原器、樹脂マスター、樹脂成形品および金型を提供する。【解決手段】対象光が透過する面内に前記対象光の波長帯よりも小さなピッチにて微細起伏構造が形成され、微細起伏構造の形成領域の一部に微細起伏構造の形成状態が他の領域に比べ相違する識別パターン領域が配されている。識別パターン領域を物理的に検証することにより、マスター原器、樹脂マスター、樹脂成形品ないし金型の製造元を検証することができる。【選択図】図7

請求項（抜粋）：

対象光が透過する面内に前記対象光の波長帯よりも小さなピッチにて形成された微細起伏構造を備える光学素子であって、 前記微細起伏構造の形成領域の一部に前記微細起伏構造の形成状態が他の領域に比べ相違する識別パターン領域を有する、 ことを特徴とする光学素子。

IPC (4件)：

G02B 1/11 ,  G02B 1/02 ,  B29C 59/02 ,  B29C 33/38

FI (4件)：

G02B1/10 A ,  G02B1/02 ,  B29C59/02 B ,  B29C33/38

Fターム (28件)：

2K009AA01 ,  2K009DD15 ,  2K009DD17 ,  4F202AF01 ,  4F202AG01 ,  4F202AG05 ,  4F202AH73 ,  4F202AJ02 ,  4F202AR12 ,  4F202CA19 ,  4F202CB01 ,  4F202CB29 ,  4F202CD02 ,  4F209AF01 ,  4F209AG05 ,  4F209AH73 ,  4F209AH75 ,  4F209AJ08 ,  4F209PA02 ,  4F209PB01 ,  4F209PC01 ,  4F209PC05 ,  4F209PC06 ,  4F209PC07 ,  4F209PC08 ,  4F209PN06 ,  4F209PN09 ,  4F209PQ11

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 光学素子
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-233456   出願人：株式会社ニコン
• 光学素子の表面加工方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-013812   出願人：日本ビクター株式会社
• 反射防止構造体を備えた部材の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-324134   出願人：松下電器産業株式会社

審査官引用 (1件)

• 複製防止光学素子
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-265581   出願人：キヤノン株式会社