軟X線断層撮影法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：深見久郎 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-217134
公開番号（公開出願番号）：特開平9-061379
出願日： 1995年08月25日
公開日（公表日）： 1997年03月07日
要約：

【要約】【課題】軽元素材料中の不純物,欠陥,密度などの空間分布を高いコントラストで撮影することができる軟X線断層撮影法を提供する。【解決手段】軟X線断層撮影法は、1Åを越えて10Åまでの間にある比較的長い波長を有する軟X線を用いて物体の断層像を撮影することを特徴とする。

請求項（抜粋）：