特許
J-GLOBAL ID:200903076571523029

近赤外線吸収フィルムの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-082628
公開番号(公開出願番号):特開2007-256759
出願日: 2006年03月24日
公開日(公表日): 2007年10月04日
要約:
【課題】近赤外線領域に大きくて、かつ、幅広い吸収を有し、可視光領域の光線透過率が高く、光学特性の経時変化が少なく、かつ、近年のディスプレイの高輝度化、フルハイビジョン化、大画面化に対応しうる、塗膜外観に高度に優れて経時での外観劣化も少ない近赤外線吸収フィルムの製造方法を提供する。【解決手段】透明基材フィルムの少なくとも片面に、近赤外線吸収層を積層してなる近赤外線吸収フィルムの製造方法であって、近赤外線吸収層は、バインダー樹脂、ジイモニウム塩系化合物を含む近赤外線吸収色素、アルコール系有機溶剤を含む有機溶剤からなる塗布液を20°C〜30°Cの範囲に温調しながら透明基材フィルムに塗布し、初期乾燥を20°C〜30°Cで10秒〜20秒間、風速2m/秒未満の湿度50%以下のドライエアーで行って積層されることを特徴とする近赤外線吸収フィルムの製造方法。
請求項(抜粋):
透明基材フィルムの少なくとも片面に、近赤外線吸収層を積層してなる近赤外線吸収フィルムの製造方法であって、近赤外線吸収層は、バインダー樹脂、ジイモニウム塩系化合物を含む近赤外線吸収色素、アルコール系有機溶剤を含む有機溶剤からなる塗布液を20°C〜30°Cの範囲に温調しながら透明基材フィルムに塗布し、初期乾燥を20°C〜30°Cで10秒〜20秒間、風速2m/秒未満の湿度50%以下のドライエアーで行って積層されることを特徴とする近赤外線吸収フィルムの製造方法。
IPC (4件):
G02B 5/22 ,  C09K 3/00 ,  B05D 5/06 ,  B05D 7/04
FI (4件):
G02B5/22 ,  C09K3/00 105 ,  B05D5/06 A ,  B05D7/04
Fターム (19件):
2H048CA04 ,  2H048CA09 ,  2H048CA12 ,  2H048CA19 ,  2H048CA26 ,  4D075BB22X ,  4D075BB56Y ,  4D075BB91Y ,  4D075BB93X ,  4D075BB93Y ,  4D075BB95Y ,  4D075CB06 ,  4D075CB07 ,  4D075DA04 ,  4D075DB48 ,  4D075DC24 ,  4D075EB22 ,  4D075EC30 ,  4D075EC35
引用特許:
出願人引用 (11件)
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