特許
J-GLOBAL ID：200903076666367512

密着状態の検出方法及び装置、密着制御方法及び装置、近接場露光方法及び装置

発明者：
稲生 耕久

稲生 耕久 について

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中里 進司

中里 進司 について

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布施 俊博

布施 俊博 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (1件)： 長尾 達也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-129904
公開番号（公開出願番号）：特開2004-335752
出願日： 2003年05月08日
公開日（公表日）： 2004年11月25日
要約：
【課題】弾性変形可能な基板を、弾性変形しない基板に対して変形させて密着させた際のこれら基板間の密着状態を、より正確に検出することが可能となる密着状態の検出方法、該検出方法による密着制御方法及び近接場露光方法、並びに密着状態の検出装置、該検出装置による密着制御装置及び近接場露光装置を提供する。【解決手段】弾性変形可能な第1の基板を、弾性変形しない第2の基板に対して変形させて密着させた際における、これら基板間の密着状態を検出する方法であって、該第1の基板201の該第2の基板202に対する変形による密着状態が、該第1の基板201に対する光源301からの光の反射光を受光する受光部302での、該反射光の受光位置の変位によって検出されるように構成する。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
弾性変形可能な第1の基板を、弾性変形しない第2の基板に対して変形させて密着させた際における、これら基板間の密着状態を検出する方法であって、 前記第1の基板の前記第2の基板に対する変形による密着状態が、前記第1の基板に対する光源からの光の反射光を受光する受光部での、該反射光の受光位置の変位によって検出されることを特徴とする密着状態の検出方法。
IPC (2件)：
H01L21/027 ,  G03F7/20
FI (3件)：
H01L21/30 508Z ,  G03F7/20 521 ,  H01L21/30 502D
Fターム (8件)：
5F046BA01 ,  5F046BA10 ,  5F046CB17 ,  5F046DA21 ,  5F046DA27 ,  5F046DB01 ,  5F046DB04 ,  5F046DC04
引用特許：
審査官引用 (6件)
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