特許
J-GLOBAL ID:200903076687980583
レーザー照射装置及びレーザー照射方法
発明者:
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出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-034468
公開番号(公開出願番号):特開平9-275081
出願日: 1997年02月03日
公開日(公表日): 1997年10月21日
要約:
【要約】【目的】 大面積を有する珪素膜に対するレーザー光の照射によるアニールの均一性を向上させる。【構成】 被照射面に対して線状のビーム形状を有するレーザー光を照射する構成において、線状ビームの長手方向における照射エネルギー密度の分布を制御するホモジナイザー103や104を構成するシリンドリカルレンズの幅や数を最適化する。例えば、ホモジナイザー103や104を構成するシリンドリカルレンズの幅を0.1mm 〜5mmとし、さらにその数を照射面における線状レーザーの長手方向の長さの5mm〜15mm当たりに1個の割合で配置するようにする。このようにすることで、線状レーザーの長手方向における照射エネルギー密度の均一性を向上させることができる。
請求項(抜粋):
照射面における線状レーザー光の長さをx(mm)とし、ホモジナイザーを構成するシリドリカルレンズの数をyとして、xとyは、(43/600)x-(1/6)≦y≦(x/5)で示される数式を満足することを特徴とするレーザー照射装置。
IPC (5件):
H01L 21/268
, H01L 21/20
, H01L 29/786
, H01L 21/336
, H01S 3/00
FI (6件):
H01L 21/268 Z
, H01L 21/20
, H01S 3/00 B
, H01L 29/78 616 A
, H01L 29/78 627 G
, H01L 29/78 627 F
引用特許: