特許
J-GLOBAL ID：200903076728568170
位相シフトマスクおよびその製造方法およびパターン転写方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-189357
公開番号（公開出願番号）：特開2006-011121
出願日： 2004年06月28日
公開日（公表日）： 2006年01月12日
要約：
【課題】基板表面に形成した凹部を透過する透過光と、その隣接する透過光との位相差を反転する位相シフトマスクにおいて、基板表面に凹部を必要としない、複数層膜構造を必要としない、構造が単純な位相シフトマスクであり、位相シフトマスクの製造工程が増加しない位相シフトマスクおよびその製造方法およびパターン転写方法を提供することにある。【解決手段】透明基板の内部に屈折率変化部を有し、屈折率変化部を透過する透過光と、透明基板を透過する透過光との位相差を180度とした位相シフトマスクであって、透明基板の内部に屈折率変化部の形成は、透明基板の内部のその位置にレーザ光を収束させ発現するレーザーアブレーションにより高密度化する又は空孔を形成する位相シフトマスクの製造方法。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
透明基板の内部に屈折率変化部を有し、該屈折率変化部を透過する透過光と、透明基板を透過する透過光との位相差を略180度としたことを特徴とする位相シフトマスク。
IPC (4件)：
G03F 1/14
, C23C 14/56
, C23C 16/04
, H01L 21/027
G03F1/14 A
, C23C14/56 J
, C23C16/04
, H01L21/30 502P
2H095BA02
, 2H095BB03
, 2H095BC24
, 2H095BC26
, 4K029HA02
, 4K029HA03
, 4K030DA05
出願人引用 (11件)
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審査官引用 (9件)
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