特許

J-GLOBAL ID：200903076884799912

投影光学装置

発明者： 畑沢 正人 ,  池田 正俊
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 立石 篤司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-152220
公開番号（公開出願番号）：特開平8-327895
出願日： 1995年05月26日
公開日（公表日）： 1996年12月13日
要約：

【要約】【目的】 非対称成分収差の補正を短時間で行なう。【構成】 複数枚のレンズの内の4枚の特定のレンズ221 〜224 に光軸に関する非対称成分収差が生じるような特殊加工(アス面加工)が施され、レンズ221 〜224 の各々が親レンズ枠14内にセットされた子レンズ枠20に保持されており、各子レンズ枠20がレンズ鏡筒12の外部から回転できるように構成されている。特定のレンズ22の2枚をそれぞれ回転させることで、光軸に関する任意の非対称成分収差を作り出すことができる。即ち、アス面加工が施されたレンズ22の内の2枚を一組として回転させれば、投影光学装置10を構成する全てのレンズから成る光学系の光軸に関する非対称成分収差を簡単に補正することが可能になる。

請求項（抜粋）：

マスクのパターンを感光基板上に投影する投影露光装置に用いられ、レンズ鏡筒と、このレンズ鏡筒内に所定間隔で保持された複数枚のレンズとを備えた投影光学装置において、前記複数枚のレンズの内の少なくとも2枚の特定のレンズにその結像特性に光軸に関する非対称成分収差が生じるような特殊加工が施され、前記特定のレンズの各々を独立して前記光軸回りに回転させるための回転機構が設けられたことを特徴とする投影光学装置。

IPC (3件)：

G02B 13/00 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

G02B 13/00 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 515 D

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 位置検出装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-052736   出願人：株式会社ニコン
• 位置検出装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-052737   出願人：株式会社ニコン
• 投影露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-323721   出願人：株式会社ニコン
• 特開平4-355419