特許
J-GLOBAL ID:200903077339663449

非線形光学素子用高分子基板色素薄膜とその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 平山 一幸 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-398194
公開番号(公開出願番号):特開2003-195375
出願日: 2001年12月27日
公開日(公表日): 2003年07月09日
要約:
【要約】【課題】 大きな3次非線形光学感受率を有し、かつ、低コストの非線形光学素子用高分子基板色素薄膜と、その製造方法を提供する。【解決手段】 透光性が良く、フレキシブル、かつ、低コストな高分子基板上に相IIの結晶構造を有する金属フタロシアニン薄膜を成長する。基板温度の制御、または、コロナ帯電によって3次非線形光学感受率が大きい非線形光学素子が得られる。相IIの結晶構造のVOPcとPET基板との組み合わせにより3次非線形光学感受率が3.5×10-9esuの非線形光学素子が得られる。
請求項(抜粋):
基板面内に配向制御した高分子基板と、該基板上に形成した相IIの結晶構造を有する金属フタロシアニン薄膜から構成される非線形光学素子用高分子基板色素薄膜。
Fターム (7件):
2K002AB12 ,  2K002BA03 ,  2K002CA06 ,  2K002DA05 ,  2K002EA21 ,  2K002FA04 ,  2K002HA20
引用特許:
審査官引用 (4件)
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引用文献:
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