高密度多孔体及びその製造方法

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：高橋祥泰
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-069072
公開番号（公開出願番号）：特開平9-227249
出願日： 1996年02月28日
公開日（公表日）： 1997年09月02日
要約：

【要約】【課題】嵩密度が高く,均一な細孔径を有し,吸着剤または触媒等として使用する際に,その特性を充分発現することができる,高密度多孔体及びその製造方法を提供すること。【解決手段】細孔径分布曲線における最大のピークを示す細孔径が1〜10nmの範囲内にあり,かつ上記細孔径分布曲線における最大のピークを示す細孔径の-40〜+40%の細孔径範囲内に,全細孔容積の60%以上が含まれており,更に,嵩密度が0.5g/cc以上である。原料であるアルコキシラン,水及び界面活性剤を混合,反応させ,シリカ/界面活性剤複合体を形成し,次いで,上記シリカ/界面活性剤複合体から界面活性剤を除去することにより高密度多孔体1を製造するが,上記原料中のH2 O/Siモル比が10以下である。

請求項（抜粋）：

細孔径分布曲線における最大のピークを示す細孔径が1〜10nmの範囲内にあり,かつ上記細孔径分布曲線における最大のピークを示す細孔径の-40〜+40%の細孔径範囲内に,全細孔容積の60%以上が含まれており,更に,嵩密度が0.5g/cc以上であることを特徴とする高密度多孔体。

IPC (5件)：

C04B 38/06 , B01J 20/00 , B01J 20/10 , B01J 21/08 , C01B 33/16

FI (6件)：

C04B 38/06 D , C04B 38/06 G , B01J 20/00 , B01J 20/10 D , B01J 21/08 A , C01B 33/16

引用特許：

審査官引用 (6件)

多孔質又は擬似多孔質異方性材料の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-104572 出願人：イーストマンコダックカンパニー
特開平4-210227
メソポーラスシリカおよびその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-027310 出願人：日本化学工業株式会社

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