特許
J-GLOBAL ID:200903077601263201
蛍光分析計を用いた水処理制御システム
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
佐藤 一雄 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-365858
公開番号(公開出願番号):特開2002-166265
出願日: 2000年11月30日
公開日(公表日): 2002年06月11日
要約:
【要約】【課題】 被処理水の相対蛍光強度を測定してトリハロメタン生成能の低減を図ることができる蛍光分析計を用いた水処理制御システム。【解決手段】 蛍光分析計を用いた水処理制御システムは、活性炭注入部4aを有する活性炭注入設備4と、活性炭注入部4aの上流に設けられた蛍光分析計7および流水流量計6とを備えている。蛍光分析計7からの測定値に基づいて、活性炭注入率演算装置8において、トリハロメタン生成能を低減させるのに必要な活性炭注入率が求められる。この活性炭注入率と流水流量計6からの測定値に基づいて、活性炭注入量制御装置9により活性炭注入部4aからの活性炭注入量が制御される。
請求項(抜粋):
被処理水に対して活性炭を注入する活性炭注入部を有する活性炭注入設備と、活性炭注入部の上流側または下流側の少なくともいずれか一方に設けられ、被処理水の相対蛍光強度を測定する蛍光分析計と、被処理水の流量を測定する流水流量計とを備え、活性炭注入設備は、更に蛍光分析計からの測定値に基づいてトリハロメタン生成能を低減させるのに必要な活性炭注入率を求める活性炭注入率演算装置と、活性炭注入率演算装置において演算された活性炭注入率を目標値として、流水流量計からの流量を用いて活性炭注入部からの活性炭注入量を制御する活性炭注入量制御装置と、を有することを特徴とする蛍光分析計を用いた水処理制御システム。
IPC (10件):
C02F 1/00
, B01D 21/30
, C02F 1/28
, C02F 1/44
, C02F 1/52
, C02F 1/76
, C02F 1/78
, G01N 21/64
, G01N 33/18
, G06F 17/60 110
FI (10件):
C02F 1/00 T
, B01D 21/30 E
, C02F 1/28 D
, C02F 1/44 H
, C02F 1/52 Z
, C02F 1/76 Z
, C02F 1/78
, G01N 21/64 Z
, G01N 33/18 E
, G06F 17/60 110
Fターム (48件):
2G043AA01
, 2G043CA03
, 2G043DA05
, 2G043EA01
, 2G043GA07
, 2G043GB21
, 2G043LA01
, 2G043NA01
, 2G043NA11
, 4D006GA02
, 4D006MB02
, 4D006PA05
, 4D006PB04
, 4D006PB06
, 4D006PB70
, 4D006PC80
, 4D015BA19
, 4D015CA14
, 4D015EA32
, 4D015FA17
, 4D015FA22
, 4D015FA24
, 4D024AA01
, 4D024AB04
, 4D024BA02
, 4D024BB01
, 4D024DA04
, 4D024DB03
, 4D024DB05
, 4D024DB21
, 4D024DB24
, 4D050AA03
, 4D050AB06
, 4D050AB19
, 4D050AB55
, 4D050BB02
, 4D050BB04
, 4D050BD03
, 4D050BD06
, 4D050BD08
, 4D050CA09
, 4D050CA16
, 4D062BA19
, 4D062CA14
, 4D062EA32
, 4D062FA17
, 4D062FA22
, 4D062FA24
引用特許:
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