特許
J-GLOBAL ID：200903077650319921

適合可能なアプリケータを備えた大面積マイクロ波プラズマ装置

発明者：
ドゥーラー、 ヨアキム

ドゥーラー、 ヨアキム について


出願人/特許権者：
エナージー コンバーション デバイセス インコーポレイテッド

エナージー コンバーション デバイセス インコーポレイテッド について


代理人 (1件)： 三好 秀和 (外1名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-513987
公開番号（公開出願番号）：特表2001-518678
出願日： 1998年09月24日
公開日（公表日）： 2001年10月16日
要約：
【要約】比較的大きな面積に亙り実質的に均一なプラズマを維持するためのマイクロ波装置。マイクロ波装置は、プラズマ領域内にプラズマを維持するための、真空容器を備えている。装置は更に、遮断周波数を制御するための手段を有し非エバネッセントマイクロ波アプリケータを備えている。マイクロ波アプリケータは導波管及びその内部に配置されたある容積の誘電体材料から成ることがある。代わりに、マイクロ波アプリケータはリッジ導波管から成ることもある。
請求項（抜粋）：
以下の構成より成ることを特徴とする、比較的大きな面積に亙って実質的に均一なプラズマを維持するための、マイクロ波装置: 前記プラズマをプラズマ領域内において維持するための真空容器; 前記真空容器内の、前記プラズマ領域に並列に基板を支持するための手段; 前記真空容器を望みの圧力に維持するための手段; 前記真空容器に作用ガスを導入するための手段; 遮断波長を制御するための手段を備えた非エバネッセントマイクロ波アプリケータ、前記アプリケータは少なくともその一部が前記真空容器内に伸長しており且つ電源からのマイクロ波エネルギーを前記真空容器内へ放射する;及び 前記プラズマ領域から前記アプリケータを気体絶縁するための手段。
IPC (4件)：
H05H 1/46 ,  H01L 21/3065 ,  C23C 16/511 ,  H01L 21/205
FI (4件)：
H05H 1/46 B ,  C23C 16/511 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/302 B
引用特許：
審査官引用 (12件)
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