特許
J-GLOBAL ID：200903077769004643
レジスト材料及びレジストパターンの形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
石田 敬 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-277570
公開番号（公開出願番号）：特開平11-119434
出願日： 1997年10月09日
公開日（公表日）： 1999年04月30日
要約：
【要約】【課題】 高解像性及び高感度に加えてドライエッチング耐性を向上させることのできる低コストの化学増幅型レジスト材料を提供することを目的とする。【解決手段】 脂環式炭化水素を含む保護基により保護されたアルカリ可溶性基を含有する第1のモノマー単位と、ラクトン構造を有する第2のモノマー単位と、前記第1のモノマー単位の保護基とは異なる保護基により保護されたアルカリ可溶性基を含有する第3のモノマー単位との共重合により形成されたものであり、その際、前記第2のモノマー単位が10〜35モル%の範囲で含まれる酸感応性3成分共重合体及び放射線露光により酸を発生する酸発生剤を含んでなるように構成する。
請求項（抜粋）：
脂環式炭化水素を含む保護基により保護されたアルカリ可溶性基を含有しかつ前記アルカリ可溶性基が酸により脱離して当該共重合体をアルカリ可溶性とならしめる構造を有する第1のモノマー単位と、ラクトン構造を有する第2のモノマー単位と、前記第1のモノマー単位の保護基とは異なる保護基により保護されたアルカリ可溶性基を含有しかつ前記アルカリ可溶性基が酸により脱離して当該共重合体をアルカリ可溶性とならしめる構造を有する第3のモノマー単位との共重合により形成されたものであり、その際、前記第2のモノマー単位が、当該共重合体の全量を基準にして10〜35モル%の範囲で含まれる酸感応性3成分共重合体、及び放射線露光により酸を発生する酸発生剤を含んでなることを特徴とする化学増幅型レジスト材料。
IPC (2件)：
G03F 7/039 601
, H01L 21/027
G03F 7/039 601
, H01L 21/30 502 R
