リソグラフ投影装置に用いる洗浄ガスシステム

発明者： , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：浅村皓 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-375240
公開番号（公開出願番号）：特開2001-210587
出願日： 2000年11月02日
公開日（公表日）： 2001年08月03日
要約：

【要約】【課題】リソグラフ投影装置において洗浄ガスの供給容積を減少させるための洗浄ガスシステムを提供すること。【解決手段】投影照射線に対して透明なガスで洗浄しなければならない容積を減少させるために、リソグラフ投影装置は、マスクホルダーおよび基板ホルダーの少なくとも1つを密接に取り囲んでいるが、照明システムあるいは投影システムのいずれかを取り囲んでいない少なくとも1つの隔壁を有している。走査装置においては、該マスクホルダーを取り囲んでいる該隔壁は、好ましくは、マスクテーブルと共に移動し、走査操作において駆動されるフレーム状のマスクテーブルと前記投影システムおよび照明システムに関して固定された静止板との組み合わせによって形成されていてもよい。

請求項（抜粋）：

照射投影ビームを供給するための照明システムと、マスクを保持するための第1対物テーブルと、基板を保持するための第2対物テーブルと、該基板の標的部分の上へ、前記マスクの照射部分を結像させるための投影システムとを有したリソグラフ投影装置において、隔壁が第1および第2の対物テーブルの少なくとも1つを密接して取り囲んでいるが、該照明システムあるいは該投影システムのいずれかを取り囲んでおらず、該隔壁には、使用時において、該投影ビームの照射に対して空気よりも透明な洗浄ガスが供給されることを特徴とするリソグラフ投影装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 , B08B 5/00 , G03F 7/20 502 , G03F 7/20 521

FI (6件)：

B08B 5/00 Z , G03F 7/20 502 , G03F 7/20 521 , H01L 21/30 503 G , H01L 21/30 515 D , H01L 21/30 516 F

引用特許：

出願人引用 (6件)

露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-046519 出願人：株式会社ニコン
走査型露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-259365 出願人：株式会社ニコン
露光装置及びデバイス製造装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-324901 出願人：株式会社ニコン

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審査官引用 (6件)

露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-046519 出願人：株式会社ニコン
走査型露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-259365 出願人：株式会社ニコン
露光装置及びデバイス製造装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-324901 出願人：株式会社ニコン

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