紫外線レーザ光用ミラー及び光学系及び投影露光装置

発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-180391
公開番号（公開出願番号）：特開2005-017543
出願日： 2003年06月25日
公開日（公表日）： 2005年01月20日
要約：

【課題】アルミニウム薄膜を反射面とするミラーにおいて、紫外線レーザ光照射時の反射率低下を抑制する。【解決手段】アルミニウム薄膜上に誘電体薄膜を積層し、該誘電体薄膜の少なくとも1層の充填密度を90%以上とする。充填密度90%以上の誘電体薄膜は基板温度150°C以上の真空蒸着またはイオンビームアシスト蒸着またはスパッタリングで成膜する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

基板上に成膜されたアルミニウム(Al)薄膜と、該アルミニウム薄膜上に成膜された1層または2層以上の誘電体薄膜とからなる紫外線レーザ光用ミラーであって、該誘電体薄膜のうち少なくとも1層が、充填密度が90%以上の誘電体薄膜であることを特徴とする紫外線レーザ光用ミラー。

IPC (5件)：

G02B5/26 , C23C14/06 , G02B5/28 , G03F7/20 , H01L21/027

FI (6件)：

G02B5/26 , C23C14/06 R , G02B5/28 , G03F7/20 502 , G03F7/20 521 , H01L21/30 515D

Fターム (23件)：

2H048FA07 , 2H048FA09 , 2H048FA18 , 2H048FA22 , 2H048FA24 , 2H048GA32 , 2H048GA60 , 2H048GA61 , 2H097AA03 , 2H097BA10 , 2H097CA13 , 2H097EA01 , 2H097GB01 , 2H097LA10 , 4K029BA42 , 4K029BB02 , 4K029BC07 , 4K029BD09 , 4K029CA05 , 4K029CA09 , 4K029EA08 , 5F046BA03 , 5F046CB02

引用特許：

審査官引用 (7件)

紫外光用ミラー、それを用いた露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-197981 出願人：株式会社ニコン
特開昭54-024046
エキシマレーザー用ミラー
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-072749 出願人：株式会社ニコン

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引用文献：

審査官引用 (1件)

屈折率制御技術

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