特許
J-GLOBAL ID：200903078129182193
ポリマ導波路及びその製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
絹谷 信雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-115661
公開番号（公開出願番号）：特開2002-311263
出願日： 2001年04月13日
公開日（公表日）： 2002年10月23日
要約：
【要約】【課題】 周囲温度が変化しても光学特性の変化が少ない低損失のポリマ導波路及びその製造方法を提供する。【解決手段】 コア層及びコア層の両側面の側面クラッド層を分岐型ポリシラン化合物にシリコーン化合物を含有した材料で構成することにより、周囲温度が変化しても光学特性の変化が少ない低損失のポリマ導波路が得られる。
請求項（抜粋）：
低屈折率のクラッド層と、該クラッド層で覆われた略矩形断面形状の高屈折率のコア層とを備えた導波路において、該コア層及び該コア層の両側面の側面クラッド層は分岐型ポリシラン化合物にシリコーン化合物を含有した材料で構成されていることを特徴とするポリマ導波路。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G02B 6/12 N
, G02B 6/12 M
2H047KA01
, 2H047KA04
, 2H047PA02
, 2H047PA22
, 2H047PA28
, 2H047QA01
, 2H047QA02
, 2H047QA04
, 2H047QA05
, 2H047TA11
, 2H047TA36
