特許
J-GLOBAL ID：200903078176251420
光導波路形成用放射線硬化性樹脂組成物、及び光導波路
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-242964
公開番号（公開出願番号）：特開2004-085646
出願日： 2002年08月23日
公開日（公表日）： 2004年03月18日
要約：
【解決手段】フェニル基含有量が40〜90mol%であるポリシロキサンを含有する放射線硬化性樹脂組成物、及び当該放射線硬化性樹脂組成物の硬化物からなるコア層中のシラノール濃度が10mmol/g以下であることを特徴とする光導波路。【効果】本発明の放射線硬化性樹脂組成物は、1.55μmでの透明性に優れる硬化物を与える。本発明により良好な解像度を有して、光通信に有用な1.55μmでの伝送損失が低い光導波路を提供することができる。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
フェニル基含有量が40〜90mol%であるポリシロキサンを含有する光導波路形成用放射線硬化性樹脂組成物。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (2件)：
引用特許：
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