特許
J-GLOBAL ID：200903078250748242

日射フィルター膜形成用塗布液

発明者：
足立 健治

足立 健治 について

, 
藤田 賢一

藤田 賢一 について


出願人/特許権者：
住友金属鉱山株式会社

住友金属鉱山株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-227000
公開番号（公開出願番号）：特開2001-049190
出願日： 1999年08月11日
公開日（公表日）： 2001年02月20日
要約：
【要約】【課題】 可視光領域の光の透過率が高く、近赤外領域の光の透過率が低く、かつ紫外線を効率よく遮蔽する膜を簡便な塗布法で成膜できるための塗布液と、これを用いた日射フィルター膜を提供する。【解決手段】 窒化物または6ホウ化物からなる平均粒径200nm以下の微粒子と、無機紫外線吸収成分及び/または有機紫外線吸収成分とを含有する日射フィルター膜形成用塗布液。微粒子の含有量は、0.02〜8.0重量%であることが望ましい。
請求項（抜粋）：
窒化物または6ホウ化物からなる平均粒径200nm以下の微粒子と、無機紫外線吸収成分及び/または有機紫外線吸収成分とを含有する日射フィルター膜形成用塗布液。
IPC (4件)：
C09D201/00 ,  C09D 5/32 ,  C09K 3/00 ,  G02B 1/10
FI (4件)：
C09D201/00 ,  C09D 5/32 ,  C09K 3/00 U ,  G02B 1/10 Z
Fターム (11件)：
2K009BB02 ,  2K009CC02 ,  2K009DD02 ,  2K009EE00 ,  4J038HA216 ,  4J038HA316 ,  4J038HA476 ,  4J038JA33 ,  4J038JB35 ,  4J038KA20 ,  4J038PB08
引用特許：
審査官引用 (15件)
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