特許

J-GLOBAL ID：200903078265304251

基板処理装置および基板洗浄装置

発明者： 宮 勝彦 ,  山下 宏二 ,  新原 薫
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-116606
公開番号（公開出願番号）：特開2002-319561
出願日： 2001年04月16日
公開日（公表日）： 2002年10月31日
要約：

【要約】【課題】 基板周辺の上部遮蔽機構に付着した処理液や洗浄液に起因する基板の汚染を防止することができる基板処理装置および基板洗浄装置を提供する。【解決手段】基板Wの上面には雰囲気制御を行う上部回転板60が配置される。飛散防止部材30には吐出ノズル37aが配置され、上部回転板60の下面60aに向けて斜め上方に純水を供給するように臨んで配置される。基板Wの洗浄処理中に制御部50は開閉バルブ37bを開成して純水供給源37cより純水を吐出ノズル37aに供給する。したがって、基板Wに臨んだ対向部位(基板対向面)である上部回転板60の下面60aを洗浄できる。

請求項（抜粋）：

処理液が供給された基板を回転させながら、基板に所要の処理を施す基板処理装置において、基板を略水平に保持する基板保持手段と、基板を挟んで前記基板保持手段に対向して雰囲気遮断する上部遮蔽機構と、前記上部遮蔽機構とは独立して側部に配設され、前記上部遮蔽機構の基板に臨んだ対向部位を洗浄する上部遮蔽洗浄手段と、を具備したことを特徴とする基板処理装置。

IPC (4件)：

H01L 21/304 643 ,  H01L 21/304 648 ,  B08B 3/02 ,  G02F 1/13 101

FI (4件)：

H01L 21/304 643 A ,  H01L 21/304 648 G ,  B08B 3/02 B ,  G02F 1/13 101

Fターム (16件)：

2H088FA21 ,  2H088FA30 ,  2H088HA01 ,  2H088MA20 ,  3B201AA03 ,  3B201AB01 ,  3B201AB33 ,  3B201AB47 ,  3B201BB21 ,  3B201BB92 ,  3B201BB95 ,  3B201BB99 ,  3B201CC12 ,  3B201CC13 ,  3B201CD22 ,  3B201CD33

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-333984   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 洗浄処理方法及び洗浄処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-009011   出願人：東京エレクトロン株式会社
• 回転式塗布装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-030258   出願人：大日本スクリーン製造株式会社

審査官引用 (2件)

• 基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-333984   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 洗浄処理方法及び洗浄処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-009011   出願人：東京エレクトロン株式会社