特許
J-GLOBAL ID:200903078487484380
ブラックマトリクス基板の製造方法および多層体の製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (3件):
原 謙三
, 木島 隆一
, 金子 一郎
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-377804
公開番号(公開出願番号):特開2006-184535
出願日: 2004年12月27日
公開日(公表日): 2006年07月13日
要約:
【課題】 2層構造のブラックマトリクスを有するBM基板を低コストで製造する方法を提供する。【解決手段】 撥液層42の形成に、静電吸引型のインクジェット装置61を用いる。従って、露光/現像を不要とできるので、工程数を減少できるとともに、撥液材42Aを節約できるので、BM基板21を低コストで製造できる。また、撥液層42の現像を行わないため、遮光層41のダメージを抑えられる。また、レジスト材料でない撥液材42Aを使用できる。また、インクジェット装置61の吐出口62の口径を0.01μm〜25μmとすることで、非常に幅の狭い撥液層42のパターン(幅25μm以下の細線)を、遮光層41上に容易に形成できる。従って、BM25の幅を小さくできる。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
透明基板上に、カラーフィルターとなるインクを載せるための開口部と、開口部を取り囲む、遮光層および撥液層からなるブラックマトリクスとを配したブラックマトリクス基板の製造方法であって、
透明基板上に、遮光材料からなる遮光層を形成する遮光層形成工程と、
遮光層上に、遮光材料に比して上記のインクに対する撥液性の高い撥液材からなる撥液層を形成する撥液層形成工程とを含み、
この撥液層形成工程が、静電吸引型のインクジェット装置により遮光層上に撥液材を吐出する撥液材吐出工程を含み、
さらに、上記のインクジェット装置のノズル口径が、0.01μm〜25μmの範囲にあることを特徴とする、ブラックマトリクス基板の製造方法。
IPC (2件):
FI (2件):
G02B5/20 101
, G02F1/1335 500
Fターム (11件):
2H048BA02
, 2H048BA64
, 2H048BB02
, 2H048BB23
, 2H048BB42
, 2H091FA02Y
, 2H091FA35Y
, 2H091FC12
, 2H091FC26
, 2H091FD04
, 2H091LA12
引用特許:
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