特許
J-GLOBAL ID：200903078499478385
プラズマ処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-268201
公開番号（公開出願番号）：特開平7-106311
出願日： 1993年09月30日
公開日（公表日）： 1995年04月21日
要約：
【要約】【目的】 被処理体の処理範囲の全面に渡って同一状態のプラズマを部分的に作用し、被処理体のプラズマ処理の均一性を向上することができるプラズマ処理装置を提供する。【構成】 気密に構成された処理室2内に被処理体Wを載置台4に載置し、プラズマを発生させ前記被処理体Wを処理するプラズマ処理装置1において、前記載置台4と対向して配置され、前記被処理体Wに部分的にプラズマを作用するための局所プラズマ発生手段31と、この局所プラズマ発生手段31と前記載置台4とを相対的に移動させる移動手段41とを備えたことを特徴とする。
請求項（抜粋）：
気密に構成された処理室内に被処理体を載置台に載置し、プラズマを発生させ前記被処理体を処理するプラズマ処理装置において、前記載置台と対向して配置され、前記被処理体に部分的にプラズマを作用するための局所プラズマ発生手段と、この局所プラズマ発生手段と前記載置台とを相対的に移動させる移動手段とを備えたことを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (4件)：
H01L 21/3065
, C23F 4/00
, H01L 21/68
, H05H 1/46
