ガラス基板のエッチング装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：特許業務法人共生国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-216358
公開番号（公開出願番号）：特開2007-053361
出願日： 2006年08月09日
公開日（公表日）： 2007年03月01日
要約：

【課題】厚さが薄く、より均一な表面を有するガラス基板を処理するためのエッチング装置を提供する。【解決手段】本発明は、エッチング液を収容する容器と、容器内に離隔、対向して複数個設置されるローラーと、を含み、離隔、対向するローラー間にガラス基板を挿入してエッチング液とローラーの回転によってエッチングを行い、各ローラーには、スポンジパッド、ブラシ、又は水流発生用部材を備えたパッドが設置され、各ローラーにスポンジパッド又はブラシが設置される場合には、スポンジパッド又はブラシは、ガラス基板と接触するように設置され、各ローラーに水流発生用部材を備えたパッドが設置される場合には、水流発生用部材を備えたパッドは、ガラス基板と接触しないように設置されることを特徴とする。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

エッチング液を収容する容器と、前記容器内に離隔、対向して複数個設置されるローラーと、を含み、離隔、対向する前記ローラー間にガラス基板を挿入して前記エッチング液と前記ローラーの回転によってエッチングを行うことを特徴とするガラス基板のエッチング装置。

IPC (1件)：

H01L 21/306

FI (1件)：

H01L21/306 J

Fターム (12件)：

5F043AA29 , 5F043AA40 , 5F043BB21 , 5F043DD13 , 5F043EE01 , 5F043EE04 , 5F043EE21 , 5F043EE24 , 5F043EE25 , 5F043EE35 , 5F043EE36 , 5F043FF07

引用特許：

出願人引用 (4件)

韓国特許出願第1998-37000号
韓国特許出願第1996-23779号
韓国特許出願第1998-41514号

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審査官引用 (6件)

酸化錫膜のエッチング方法及び装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-293278 出願人：旭電化工業株式会社
特開昭60-213084
特開平1-212253

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