特許

J-GLOBAL ID：200903078563424014

蒸着膜の形成方法および蒸着装置、並びに有機発光ディスプレイの製造方法

発明者： 小林 和正 ,  村山 浩二 ,  金子 勝弘 ,  藤本 浩樹
出願人/特許権者： 京セラ株式会社
代理人 (3件)： 楠本 高義 ,  増田 建 ,  中越 貴宣
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-109473
公開番号（公開出願番号）：特開2006-294280
出願日： 2005年04月06日
公開日（公表日）： 2006年10月26日
要約：

【課題】本発明は、大型で極薄の蒸着マスクのアラインメント時における撓みを防ぎ、基体のサブピクセルと蒸着マスクの開口が、アラインメント時における精密な位置合わせ状態を保持して蒸着を行なう蒸着膜の形成方法及び蒸着装置を提供することを目的とする。【解決手段】本発明の蒸着膜の形成方法は、基体と、外部領域及び内部領域を有し、該内部領域に多数の開口を配置した蒸着マスクと、該蒸着マスクを載置する支持体と、を準備する工程と、前記蒸着マスクを前記支持体に載置させ、該支持体で該蒸着マスクを前記内部領域における前記開口の非形成領域で支持する工程と、前記支持体に載置した前記蒸着マスクを前記基体に近接もしくは密着させる工程と、前記蒸着マスクを前記支持体より離間させる工程と、前記蒸着マスクの開口を介して前記基体上に蒸発物を蒸着させて膜形成を行なう工程と、を備える。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

基体と、外部領域及び内部領域を有し、該内部領域に多数の開口を配置した蒸着マスクと、該蒸着マスクを載置する支持体と、を準備する工程と、 前記蒸着マスクを前記支持体に載置させ、該支持体で該蒸着マスクを前記内部領域における前記開口の非形成領域で支持する工程と、 前記支持体に載置した前記蒸着マスクを前記基体に近接もしくは密着させる工程と、 前記蒸着マスクを前記支持体より離間させる工程と、 前記蒸着マスクの開口を介して前記基体上に蒸発物を蒸着させて膜形成を行なう工程と、 を備えた蒸着膜の形成方法。

IPC (4件)：

H05B 33/10 ,  C23C 14/04 ,  C23C 14/24 ,  H01L 51/50

FI (4件)：

H05B33/10 ,  C23C14/04 A ,  C23C14/24 G ,  H05B33/14 A

Fターム (8件)：

3K007AB18 ,  3K007DB03 ,  3K007FA01 ,  4K029BA62 ,  4K029BB02 ,  4K029CA01 ,  4K029HA03 ,  4K029HA04

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 蒸着用治具及び蒸着方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-304490   出願人：ソニー株式会社

審査官引用 (4件)

• 蒸着装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-157963   出願人：株式会社半導体エネルギー研究所
• メタルマスクアライメント装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-343525   出願人：三菱電機株式会社
• マスク、容器、および製造装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-106139   出願人：株式会社半導体エネルギー研究所
• 製造装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-034491   出願人：株式会社半導体エネルギー研究所