特許
J-GLOBAL ID：200903064007460833

蒸着装置

発明者：
山崎 舜平

山崎 舜平 について


出願人/特許権者：
株式会社半導体エネルギー研究所

株式会社半導体エネルギー研究所 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-157963
公開番号（公開出願番号）：特開2004-063454
出願日： 2003年06月03日
公開日（公表日）： 2004年02月26日
要約：
【課題】大面積基板を用いた多面取りに適し、且つ、EL材料の利用効率が高く、膜の均一性にすぐれた蒸着装置を提供する。【解決手段】本発明は、基板保持手段12上に基板13および蒸着マスク14を載せ、蒸着源ホルダ17と被蒸着物(基板13)との間隔を30cm以下、好ましくは20cm以下、さらに好ましくは5〜15cmと狭め、さらに蒸着の際、蒸着源ホルダ17を絶縁物(バンク、隔壁とも呼ばれる)10に合わせてX方向またはY方向に移動させ、且つ、シャッター15を開閉することによって成膜を行う。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
基板に対向して配置した蒸着源ホルダから有機化合物材料を蒸着させて前記基板上に成膜を行う蒸着装置であって、 前記基板が配置される成膜室には、基板保持手段と、前記蒸着源ホルダを移動させる手段と、前記蒸着源ホルダは蒸着材料が封入された容器と、前記容器を加熱する手段と、前記容器上に設けられたシャッターと、を有し、 前記蒸着源ホルダを移動させる手段は前記蒸着源ホルダをあるピッチでX軸方向に移動させ、且つ、あるピッチでY軸方向に移動させる機能を有し、 前記基板保持手段は、基板と前記蒸着ホルダとの間に配置されていることを特徴とする蒸着装置。
IPC (4件)：
H05B33/10 ,  C23C14/12 ,  C23C14/24 ,  H05B33/14
FI (4件)：
H05B33/10 ,  C23C14/12 ,  C23C14/24 C ,  H05B33/14 A
Fターム (19件)：
3K007AB18 ,  3K007DB03 ,  3K007FA01 ,  4K029AA09 ,  4K029AA24 ,  4K029BA62 ,  4K029BC07 ,  4K029BD00 ,  4K029CA01 ,  4K029DA09 ,  4K029DA12 ,  4K029DB10 ,  4K029DB12 ,  4K029DB13 ,  4K029DB14 ,  4K029DB15 ,  4K029HA01 ,  4K029JA01 ,  4K029JA06
引用特許：
審査官引用 (7件)
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