特許

J-GLOBAL ID：200903078569405801

基板洗浄装置

発明者： 内平 則夫 ,  松田 義隆 ,  佐田 徹也 ,  太田 義治
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 高山 宏志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-135513
公開番号（公開出願番号）：特開2000-325894
出願日： 1999年05月17日
公開日（公表日）： 2000年11月28日
要約：

【要約】【課題】 大型の基板であっても、洗浄水によりスループットおよび洗浄能力を極めて高くして洗浄することができる基板洗浄装置を提供すること。【解決手段】 基板Gに洗浄液を供給して基板を洗浄する基板洗浄装置は、基板Gを回転させる回転機構48と、基板Gに洗浄液をライン状に吐出するライン状吐出ノズル54と、ライン状吐出ノズル54を基板G上で移動させる移動機構57とを具備する。この装置により、基板回転機構48により基板Gを回転させ、かつ移動機構57によりライン状吐出ノズル54を基板G上で移動させつつ、ライン状吐出ノズル54から基板Gに洗浄液を吐出させる。

請求項（抜粋）：

基板に洗浄液を供給して基板を洗浄する基板洗浄装置であって、基板を回転させる基板回転機構と、基板に洗浄液をライン状に吐出するライン状吐出ノズルと、前記ライン状吐出ノズルを基板上で移動させる移動機構とを具備し、前記基板回転機構により基板を回転させ、かつ前記移動機構により前記ライン状吐出ノズルを基板上で移動させつつ、前記ライン状吐出ノズルから基板に洗浄液を吐出させることを特徴とする基板洗浄装置。

IPC (4件)：

B08B 3/02 ,  B08B 3/12 ,  B08B 7/04 ,  H01L 21/304 643

FI (5件)：

B08B 3/02 B ,  B08B 3/02 D ,  B08B 3/12 Z ,  B08B 7/04 A ,  H01L 21/304 643 A

Fターム (24件)：

3B116AA02 ,  3B116AB23 ,  3B116AB42 ,  3B116BA02 ,  3B116BA14 ,  3B116BA34 ,  3B116BB32 ,  3B116BB55 ,  3B116BB85 ,  3B116CC05 ,  3B201AA02 ,  3B201AB24 ,  3B201AB34 ,  3B201AB42 ,  3B201BA02 ,  3B201BA14 ,  3B201BA34 ,  3B201BB32 ,  3B201BB55 ,  3B201BB85 ,  3B201BB93 ,  3B201CB12 ,  3B201CC13 ,  3B201CC21

引用特許：

審査官引用 (6件)

• 基板洗浄装置および基板洗浄方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-333120   出願人：大日本スクリーン製造株式会社, 富士通株式会社
• 基板洗浄装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-088781   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 特開平4-213827
  
• 半導体基板の洗浄方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-284790   出願人：株式会社東芝, 東芝マイクロエレクトロニクス株式会社
• ウェハーの洗浄装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-106382   出願人：株式会社リコー
• 特開平4-213827