特許
J-GLOBAL ID：200903078613989280

プラズマ処理方法

発明者：
小笠原 正宏

小笠原 正宏 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 高山 宏志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-080312
公開番号（公開出願番号）：特開2007-258417
出願日： 2006年03月23日
公開日（公表日）： 2007年10月04日
要約：
【課題】 フォーカスリングの消耗に起因するエッチング形状などの処理結果への悪影響を極力低減するとともに、フォーカスリングの使用期間を長期化することが可能なプラズマ処理方法を提供する。【解決手段】 サセプタ5の上端周縁部には、静電チャック11上に載置されたウエハWを囲むように、環状のフォーカスリング15が配置されている。フォーカスリング15には、直流電源16が接続されており、フォーカスリング15の消耗度、フォーカスリング15上方の電界変化の検知結果、または既に実施されたプラズマ処理結果に基づき、所定の直流電圧がフォーカスリング15に印加される。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
被処理体に対してプラズマ処理を行なう処理容器と、前記処理容器内において被処理体を載置する載置台と、前記載置台の周囲に配備された外周部材と、前記外周部材に電圧を印加する電圧印加装置と、を備えたプラズマ処理装置を用い、 前記外周部材の消耗度に基づき、前記電圧印加装置により所定の電圧を前記外周部材に印加してプラズマ処理を行なう、プラズマ処理方法。
IPC (2件)：
H01L 21/306 ,  H01L 21/205
FI (2件)：
H01L21/302 101B ,  H01L21/205
Fターム (23件)：
5F004AA01 ,  5F004BA06 ,  5F004BA09 ,  5F004BB11 ,  5F004BB22 ,  5F004BB28 ,  5F004BB29 ,  5F004CA03 ,  5F004CA08 ,  5F004DA00 ,  5F004DA01 ,  5F004DA04 ,  5F004DA16 ,  5F004DA26 ,  5F045AA08 ,  5F045BB01 ,  5F045EH05 ,  5F045EH19 ,  5F045EM05 ,  5F045EM09 ,  5F045GB01 ,  5F045GB11 ,  5F045GB16
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (2件)

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