特許

J-GLOBAL ID：200903078628628747

定圧チャンバ、それを用いた照射装置、回路パターンの製造装置及び回路パターンの検査装置

発明者： 水落 真樹 ,  福嶋 芳雅 ,  松井 伸
出願人/特許権者： 株式会社日立ハイテクノロジーズ ,  キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 小川 勝男 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-087678
公開番号（公開出願番号）：特開2003-282423
出願日： 2002年03月27日
公開日（公表日）： 2003年10月03日
要約：

【要約】【課題】パターンを形成した試料の歩留まりを向上することにある。【解決手段】試料室3を定圧チャンバ2により包囲し、試料室3内を真空ポンプ50で一定の真空圧力にし、圧力制御手段80により定圧チャンバ2内の圧力を試料室3の真空圧力が一定に維持されるように調整する。

請求項（抜粋）：

試料室を包囲する定圧チャンバと、前記試料室内を一定の真空圧力にする真空ポンプと、前記定圧チャンバに設けたこの内部の圧力を前記試料室内の真空圧力が一定に維持されるように調整する圧力制御手段とを備えていることを特徴とする定圧チャンバ。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G01B 11/00 ,  G03F 7/20 521

FI (4件)：

G01B 11/00 B ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 541 L ,  H01L 21/30 531 A

Fターム (30件)：

2F065AA01 ,  2F065AA06 ,  2F065AA20 ,  2F065BB02 ,  2F065BB25 ,  2F065CC17 ,  2F065DD06 ,  2F065DD14 ,  2F065EE05 ,  2F065FF55 ,  2F065FF61 ,  2F065GG04 ,  2F065PP12 ,  2F065RR09 ,  5F046AA22 ,  5F046CC01 ,  5F046CC03 ,  5F046CC16 ,  5F046DA07 ,  5F046DA27 ,  5F046DB05 ,  5F046DC10 ,  5F046GA08 ,  5F046GA14 ,  5F056CB05 ,  5F056CB22 ,  5F056EA12 ,  5F056EA14 ,  5F056EA16 ,  5F056EA17

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 荷電粒子ビーム描画装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-202553   出願人：株式会社東芝
• 荷電粒子ビーム装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-147312   出願人：日本電子株式会社
• 露光装置及びデバイス製造装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-324901   出願人：株式会社ニコン