特許
J-GLOBAL ID：200903079092983766

次亜塩素酸発生方法及び装置

発明者：
広 直樹

広 直樹 について

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小泉 友人

小泉 友人 について

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樂間 毅

樂間 毅 について

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河内 基樹

河内 基樹 について


出願人/特許権者：
三洋電機株式会社

三洋電機株式会社 について


代理人 (1件)： 雨笠 敬
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-217933
公開番号（公開出願番号）：特開2003-024941
出願日： 2001年07月18日
公開日（公表日）： 2003年01月28日
要約：
【要約】【課題】 被処理水中に塩化物イオンを多く含むことなく、効率的に次亜塩素酸を発生させ、被処理水の処理効率を向上させることができる次亜塩素酸発生方法及び次亜塩素酸発生装置を提供する。【解決手段】 アノード6とカソード7間に電流を流し、電解によって被処理水中に次亜塩素酸を発生させる次亜塩素酸発生方法であって、アノード6を構成する材料として貴金属又は金属酸化物を用いると共に、被処理水の塩化物イオンの濃度を1000mg/l以下とし、被処理水を攪拌しながら電解を行う。
請求項（抜粋）：
アノードとカソード間に電流を流し、電解によって被処理水中に次亜塩素酸を発生させる次亜塩素酸発生方法において、前記アノードを構成する材料として貴金属又は金属酸化物を用いると共に、前記被処理水の塩化物イオンの濃度を1000mg/l以下とし、前記被処理水を攪拌しながら電解を行うことを特徴とする次亜塩素酸発生方法。
IPC (5件)：
C02F 1/46 ,  C25B 1/26 ,  C25B 9/00 ,  C25B 11/02 301 ,  C25B 11/08
FI (5件)：
C02F 1/46 Z ,  C25B 1/26 D ,  C25B 11/02 301 ,  C25B 11/08 Z ,  C25B 9/00 A
Fターム (32件)：
4D061DA07 ,  4D061DB10 ,  4D061EA02 ,  4D061EB01 ,  4D061EB14 ,  4D061EB17 ,  4D061EB20 ,  4D061EB30 ,  4D061EB31 ,  4D061EB33 ,  4D061EB35 ,  4D061EB37 ,  4D061EB39 ,  4D061ED06 ,  4D061ED12 ,  4D061ED13 ,  4D061ED20 ,  4D061GA06 ,  4D061GA12 ,  4D061GC06 ,  4D061GC12 ,  4K011AA27 ,  4K011AA28 ,  4K011CA04 ,  4K011DA01 ,  4K021AB07 ,  4K021BA02 ,  4K021BB01 ,  4K021BC01 ,  4K021DA09 ,  4K021DC07 ,  4K021EA03
引用特許：
審査官引用 (7件)
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