特許
J-GLOBAL ID：200903079409035249
フォトレジスト現像廃液の再生処理方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
三浦 進二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-334800
公開番号（公開出願番号）：特開平11-190907
出願日： 1997年11月20日
公開日（公表日）： 1999年07月13日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】 フォトレジスト現像廃液の簡単且つ効率的な再生処理方法を提供する。【解決手段】 フォトレジスト及びテトラアルキルアンモニウム(TAA)イオンを主として含有するフォトレジスト現像廃液を処理するに当たって、電気透析及び/又は電解によりTAAイオンを濃縮する工程とイオン交換樹脂〔好ましくは、陰イオン交換樹脂及び水素イオン形(H形)及び/又はTAAイオン形(TAA形)陽イオン交換樹脂〕と接触させて不純物〔(残留)フォトレジスト、その他の陰イオン成分、Na+ 等の陽イオン成分等〕を吸着除去する工程とを少なくとも行い、フォトレジスト現像廃液からフォトレジスト現像液として再利用できる高純度の水酸化テトラアルキルアンモニウムの溶液を再生回収する。
請求項（抜粋）：
フォトレジスト及びテトラアルキルアンモニウムイオンを主として含有するフォトレジスト現像廃液を処理するに当たって、電気透析及び電解の少なくとも一方の方法で処理してテトラアルキルアンモニウムイオンを濃縮する工程と、イオン交換樹脂と接触させる不純物の吸着除去の工程とを少なくとも含む、フォトレジスト現像廃液からフォトレジスト現像液として再利用できる高純度の水酸化テトラアルキルアンモニウムの溶液を再生回収することを特徴とするフォトレジスト現像廃液の再生処理方法。
IPC (6件)：
G03F 7/26
, B01D 61/44 500
, C02F 1/42
, C02F 1/461
, C02F 1/469
, G03F 7/32
G03F 7/26
, B01D 61/44 500
, C02F 1/42 D
, G03F 7/32
, C02F 1/46 101 C
, C02F 1/46 103
