特許
J-GLOBAL ID:200903079591818857

ガス放電レーザシステム及びその制御方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 奥山 尚一 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-075152
公開番号(公開出願番号):特開2000-294857
出願日: 2000年03月17日
公開日(公表日): 2000年10月20日
要約:
【要約】【課題】 ガス放電レーザの初期のガス組成または最適なガス組成をレーザ稼働状態を乱すことなく安定化させるためのガス放電レーザシステムを提供する。【解決手段】 レーザ混合ガスの成分ガスをガス供給ユニット10とプロセッサ11を使って所定の分圧に維持することによって、ガス放電レーザの出力ビームパラメータが安定化される。レーザ混合ガスの成分ガスは初期の分圧で提供されが、成分ガスはレーザ放電チャンバ1内では減損しやすい。レーザ成分ガスの分圧と既知の対応で変化する出力ビームパラメータを維持するために、時間またはパルスカウンタ、駆動電圧などのパラメータがモニタされる。それぞれの成分ガスの注入は放電チャンバ1内の分圧を選ばれた量だけ増加させるために実行される。成分ガスを実質的に初期の分圧に維持するための多数の連続注入が、出力ビームパラメータを安定に維持するために選ばれた間隔で実行される。
請求項(抜粋):
減損しやすい第1の成分ガスを含むレーザ混合ガスを含む放電チャンバと、パルス放電を生じさせて前記混合ガスを活性化させるための駆動電圧を与える電源回路に接続された一対の電極と、前記放電チャンバを取り囲む、パルスレーザビームを生成するための共振器と、前記放電チャンバに接続されたガス供給ユニットと、前記ガス供給ユニットと前記放電チャンバとの間のガス流を制御するためプロセッサとを備え、前記ガス供給ユニットと前記プロセッサは、前記第1の成分ガスを0.0001ミリバールと0.2ミリバールとの間の圧力において選ばれた間隔で前記放電チャンバ内に注入するように構成されたことを特徴とするガス放電レーザシステム。
IPC (3件):
H01S 3/036 ,  H01S 3/134 ,  H01S 3/225
FI (3件):
H01S 3/03 J ,  H01S 3/134 ,  H01S 3/223 E
引用特許:
審査官引用 (10件)
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