特許
J-GLOBAL ID：200903079677382814

現像装置および現像方法

発明者：
美作 昌宏

美作 昌宏 について

, 
内谷 耕二

内谷 耕二 について


出願人/特許権者：
大日本スクリーン製造株式会社

大日本スクリーン製造株式会社 について


代理人 (1件)： 福島 祥人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-110816
公開番号（公開出願番号）：特開平10-303103
出願日： 1997年04月28日
公開日（公表日）： 1998年11月13日
要約：
【要約】【課題】 基板上の感光性膜に少量の現像液で均一な現像処理を行うことができる現像装置および現像方法を提供することである。【解決手段】 現像処理時に基板100を基板保持部1により静止状態で保持する。現像液吐出ノズル11の走査開始位置P1にて現像液吐出ノズル11の走査開始前または走査開始と同時に現像液吐出ノズル11による現像液の吐出を開始する。現像液吐出ノズル11が、現像液を吐出しながら基板100上を走査方向Aに直線状に移動し、基板100上を通過した後、基板100上から外れた吐出停止位置P2で現像液の吐出を停止する。現像液吐出ノズル11が走査停止位置P3に到達した時点で走査を停止する。
請求項（抜粋）：
基板を水平姿勢で保持する基板保持手段と、現像液を吐出する現像液吐出ノズルと、前記基板保持手段に静止状態で保持された基板外の一方側の移動開始位置から前記基板上を通過して前記基板外の他方側の停止位置まで前記現像液吐出ノズルを移動させる移動手段と、前記現像液吐出ノズルの移動開始位置で前記現像液吐出ノズルによる現像液の吐出を開始させる制御手段とを備えたことを特徴とする現像装置。
IPC (5件)：
H01L 21/027 ,  B05C 5/02 ,  B05C 11/08 ,  B05C 11/10 ,  G03F 7/30 501
FI (5件)：
H01L 21/30 569 A ,  B05C 5/02 ,  B05C 11/08 ,  B05C 11/10 ,  G03F 7/30 501
引用特許：
審査官引用 (3件)
  • 現像装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-289389   出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
  • 現像装置及び現像処理方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-276984   出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
  • 基板処理装置及び基板処理方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-271489   出願人：大日本スクリーン製造株式会社

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