特許

J-GLOBAL ID：200903079720409071

触媒及びアミンの製造法

発明者： ティル ゲルラッハ ,  フランク フンケ ,  ヨハン-ペーター メルダー ,  シュテファン イーゼルボルン ,  マーティン ルドロフ ,  ミヒャエル ヒュルマン
出願人/特許権者： ビーエーエスエフ アクチェンゲゼルシャフト
代理人 (5件)： 矢野 敏雄 ,  山崎 利臣 ,  久野 琢也 ,  アインゼル・フェリックス=ラインハルト ,  ラインハルト・アインゼル
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-574608
公開番号（公開出願番号）：特表2005-527516
出願日： 2003年03月07日
公開日（公表日）： 2005年09月15日
要約：

水素での処理前に、その触媒活性材料中に、ジルコニウムの酸素含有化合物22〜40質量%(ZrO2として算出したもの)、銅の酸素含有化合物1〜30質量%(CuOとして算出したもの)、ニッケルの酸素含有化合物15〜50質量%(NiOとして算出したもの)(但し、銅に対するニッケルのモル比は1を上回る)、コバルトの酸素含有化合物15〜50質量%(CoOとして算出したもの)及び、アルカリ金属1質量%未満(アルカリ金属酸化物として算出したもの)を含有する触媒、並びに、該触媒の存在で、1級又は2級アルコール、アルデヒド又はケトンを、高められた温度及び高められた圧力で、水素、及び、アンモニア、1級及び2級アミンの群から選択された窒素化合物と反応させることによりアミンを製造する方法。

請求項（抜粋）：

1級又は2級アルコール、アルデヒド又はケトンを、高められた温度及び高められた圧力で、水素、及び、アンモニア、1級及び2級アミンの群から選択された窒素化合物と、触媒の存在で反応させることによるアミンの製造法において、触媒の触媒活性材料が、水素での処理前に、以下 ジルコニウムの酸素含有化合物22〜40質量%(ZrO2として算出したもの) 銅の酸素含有化合物1〜30質量%(CuOとして算出したもの) ニッケルの酸素含有化合物15〜50質量%(NiOとして算出したもの)、但し、銅に対するニッケルのモル比は1を上回る、 コバルトの酸素含有化合物15〜50質量%(CoOとして算出したもの) 及び、アルカリ金属1質量%未満(アルカリ金属酸化物として算出したもの) を含有することを特徴とするアミンの製造法。

IPC (4件)：

C07C209/60 ,  B01J23/78 ,  C07C211/07 ,  C07D295/02

FI (4件)：

C07C209/60 ,  B01J23/78 Z ,  C07C211/07 ,  C07D295/02 Z

Fターム (67件)：

4G069AA02 ,  4G069AA08 ,  4G069BA01A ,  4G069BA02B ,  4G069BA05A ,  4G069BA05B ,  4G069BB04A ,  4G069BB04B ,  4G069BC31A ,  4G069BC31B ,  4G069BC67A ,  4G069BC67B ,  4G069BC68A ,  4G069BC68B ,  4G069CB25 ,  4G069CB77 ,  4G069DA06 ,  4G069DA08 ,  4G069EA02Y ,  4G069ED03 ,  4G069FA01 ,  4G069FB09 ,  4G069FB30 ,  4G069FB44 ,  4G069FC08 ,  4G169AA02 ,  4G169AA08 ,  4G169BA01A ,  4G169BA02B ,  4G169BA05A ,  4G169BA05B ,  4G169BB04A ,  4G169BB04B ,  4G169BC31A ,  4G169BC31B ,  4G169BC67A ,  4G169BC67B ,  4G169BC68A ,  4G169BC68B ,  4G169CB25 ,  4G169CB77 ,  4G169DA06 ,  4G169DA08 ,  4G169EA02Y ,  4G169ED03 ,  4G169FA01 ,  4G169FB09 ,  4G169FB30 ,  4G169FB44 ,  4G169FC08 ,  4H006AA02 ,  4H006AC52 ,  4H006BA02 ,  4H006BA05 ,  4H006BA10 ,  4H006BA20 ,  4H006BA21 ,  4H006BA30 ,  4H006BA81 ,  4H006BC10 ,  4H006BC11 ,  4H006BC31 ,  4H006BC32 ,  4H006BC34 ,  4H006BE20 ,  4H039CA71 ,  4H039CL25

引用特許：

審査官引用 (10件)

• アミン、触媒の製造方法、およびその触媒の使用
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-167097   出願人：ビーエーエスエフアクチェンゲゼルシャフト
• アミンの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-370628   出願人：ビーエーエスエフアクチェンゲゼルシャフト
• 特開平2-233143
  
• 特開平2-233143
  
• アミンの製法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-066725   出願人：ビーエーエスエフアクチェンゲゼルシャフト
• モノイソプロピルアミンの製法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-371847   出願人：ビーエーエスエフアクチェンゲゼルシャフト
• アミンの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-202053   出願人：ビーエーエスエフアクチェンゲゼルシャフト
• 特開昭55-139342
  
• 特開昭55-139342
  
• アミンの製造方法及びそのための触媒
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-273678   出願人：ビーエーエスエフアクチェンゲゼルシャフト