特許
J-GLOBAL ID：200903079730731290

2流体ノズル、ミスト発生方法および洗浄処理装置

発明者：
丹生谷 貴行

丹生谷 貴行 について

, 
グレン ゲール

グレン ゲール について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 高山 宏志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-281705
公開番号（公開出願番号）：特開2005-046737
出願日： 2003年07月29日
公開日（公表日）： 2005年02月24日
要約：
【課題】 半導体ウエハに付着した微小なパーティクル等を除去するために用いられる2流体ノズルを提供する。【解決手段】 2流体ノズル41は、略筒状のノズル本体61と、ノズル本体61の内部に配置され、細孔63aを有する疎水性の膜63を表面に備えた液滴発生用の容器62を具備する。容器62に洗浄液が供給されることによって洗浄液が細孔63aを通して膜63の表面に押し出されて微小な液滴65が生じ、その際にノズル本体61にガスが供給されることによって、液滴65がこのガスによってミスト化されてノズル本体61から噴射される。【選択図】 図4
請求項（抜粋）：
被処理体に処理液の微小なミストを噴射する2流体ノズルであって、 ノズル本体と、 前記ノズル本体の内部に配置され、細孔を有する疎水性の膜と、 を具備し、 前記膜に前記処理液が供給されることによって前記処理液が前記細孔を通して前記膜の表面に押し出されて微小な液滴が生じ、その際に前記ノズル本体にガスが供給されることによって、前記液滴が前記ガスによって前記ノズル本体から噴射されることを特徴とする2流体ノズル。
IPC (3件)：
B08B3/02 ,  B05B7/00 ,  H01L21/304
FI (3件)：
B08B3/02 G ,  B05B7/00 ,  H01L21/304 643C
Fターム (16件)：
3B201AA03 ,  3B201AB23 ,  3B201AB34 ,  3B201AB47 ,  3B201BB32 ,  3B201BB38 ,  3B201BB93 ,  3B201BB94 ,  3B201BB96 ,  3B201BB98 ,  4F033QA09 ,  4F033QB02Y ,  4F033QB15X ,  4F033QD04 ,  4F033QD14 ,  4F033QD23
引用特許：
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (4件)
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