メンテナンス装置及びメンテナンス方法並びに露光装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：志賀正武 , 高橋詔男 , 青山正和 , 西和哉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-334667
公開番号（公開出願番号）：特開2006-147776
出願日： 2004年11月18日
公開日（公表日）： 2006年06月08日
要約：

【課題】カバープレート等の板体が設けられる場合でも、基板の支持面に対して清掃等のメンテナンス処理を円滑に行う。【解決手段】支持面34Aを有するホルダ52と、ホルダ52に着脱可能に載置され支持面34Aの一部を覆う板体30とを備えたステージPSTのメンテナンス処理を行う。支持面34Aに対して所定のメンテナンス処理を行う処理部73と、板体30を支持面34Aから退避させる退避装置71、75とを有する。【選択図】図6

請求項（抜粋）：

支持面を有するホルダと、該ホルダに着脱可能に載置され前記支持面の一部を覆う板体とを備えたステージのメンテナンス処理を行うメンテナンス装置であって、前記支持面に対して所定のメンテナンス処理を行う処理部と、前記板体を前記支持面から退避させる退避装置とを有することを特徴とするメンテナンス装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20

FI (4件)：

H01L21/30 503G , G03F7/20 521 , H01L21/30 515D , H01L21/30 515G

Fターム (4件)：

5F046BA03 , 5F046CC08 , 5F046DA27 , 5F046DA30

引用特許：

出願人引用 (2件)

露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-230069 出願人：株式会社ニコン
国際公開第99/49504号パンフレット

審査官引用 (5件)

収納装置、露光装置、清掃処理方法及び露光方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-222456 出願人：株式会社ニコン
基板保持装置、半導体製造装置および半導体デバイス製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-040169 出願人：キヤノン株式会社
露光装置用のクリーニング装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-252243 出願人：株式会社ニコン

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