特許
J-GLOBAL ID:200903083223538426

基板保持装置、半導体製造装置および半導体デバイス製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 西山 恵三 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-040169
公開番号(公開出願番号):特開2001-326270
出願日: 2001年02月16日
公開日(公表日): 2001年11月22日
要約:
【要約】【課題】 半導体製造工程における生産性を向上させる。【解決手段】 本発明の基板保持装置は、基板を接地する接地部を有する着脱自在なプレートを保持するベース部材と、プレートに基板を吸着する第1の吸着機構と、ベース部材にプレートを吸着する第2の吸着機構とを有することを特徴とする。これにより、本発明の基板保持装置によれば、プレートを取り外すことができるので、汚れを取り除くための時間がかからず、生産性を向上させることができる。また、平板上のプレートが着脱可能であるため、プレートの交換が容易である。
請求項(抜粋):
基板を保持する基板保持装置であって、該基板を接地する接地部を有する着脱自在なプレートを保持するベース部材と、該プレートに該基板を吸着する第1の吸着機構と、該ベース部材に該プレートを吸着する第2の吸着機構とを有することを特徴とする基板保持装置。
IPC (2件):
H01L 21/68 ,  H01L 21/027
FI (3件):
H01L 21/68 N ,  H01L 21/68 M ,  H01L 21/30 503 C
引用特許:
審査官引用 (7件)
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