特許
J-GLOBAL ID:200903083223538426
基板保持装置、半導体製造装置および半導体デバイス製造方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
西山 恵三 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-040169
公開番号(公開出願番号):特開2001-326270
出願日: 2001年02月16日
公開日(公表日): 2001年11月22日
要約:
【要約】【課題】 半導体製造工程における生産性を向上させる。【解決手段】 本発明の基板保持装置は、基板を接地する接地部を有する着脱自在なプレートを保持するベース部材と、プレートに基板を吸着する第1の吸着機構と、ベース部材にプレートを吸着する第2の吸着機構とを有することを特徴とする。これにより、本発明の基板保持装置によれば、プレートを取り外すことができるので、汚れを取り除くための時間がかからず、生産性を向上させることができる。また、平板上のプレートが着脱可能であるため、プレートの交換が容易である。
請求項(抜粋):
基板を保持する基板保持装置であって、該基板を接地する接地部を有する着脱自在なプレートを保持するベース部材と、該プレートに該基板を吸着する第1の吸着機構と、該ベース部材に該プレートを吸着する第2の吸着機構とを有することを特徴とする基板保持装置。
IPC (2件):
FI (3件):
H01L 21/68 N
, H01L 21/68 M
, H01L 21/30 503 C
引用特許:
審査官引用 (7件)
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基板保持部材及び露光装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-279782
出願人:株式会社ニコン
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基板保持装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-357049
出願人:キヤノン株式会社
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薄板保持装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-230735
出願人:ソニー株式会社
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特開平4-152512
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露光装置及び基板保持装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-267023
出願人:株式会社ニコン
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露光装置およびデバイス製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-303328
出願人:キヤノン株式会社
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処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-060606
出願人:日本電子株式会社
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