特許
J-GLOBAL ID：200903079774233238

基板洗浄方法及び基板洗浄装置

発明者：
稲垣 靖史

稲垣 靖史 について


出願人/特許権者：
ソニー株式会社

ソニー株式会社 について


代理人 (1件)： 小池 晃 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-341094
公開番号（公開出願番号）：特開2002-151457
出願日： 2000年11月08日
公開日（公表日）： 2002年05月24日
要約：
【要約】【課題】 均一安定な基板洗浄を可能とし、同時に省資源化、廃棄物低減化を可能とする。【解決手段】 弗化アンモニウムを含む水溶液を洗浄液として基板の洗浄を行う際に、定期的に所定成分の濃度測定を行い、この測定結果に基づいて必要に応じて濃度を是正する成分を追加補充する。例えば、測定する成分をHFとし、測定結果が設定範囲を下回った場合にはHF成分を補充し、測定結果が設定範囲を上回った場合にはアンモニア成分を補充する。
請求項（抜粋）：
弗化アンモニウムを含む水溶液を洗浄液として基板の洗浄を行う際に、上記洗浄液中の所定の成分の濃度を測定し、測定結果が設定範囲を外れたときには洗浄液に当該成分濃度を是正する成分を補充することを特徴とする基板洗浄方法。
IPC (7件)：
H01L 21/304 648 ,  H01L 21/304 ,  H01L 21/304 647 ,  B08B 3/08 ,  G02F 1/13 101 ,  G02F 1/1333 500 ,  H01L 21/308
FI (7件)：
H01L 21/304 648 G ,  H01L 21/304 648 K ,  H01L 21/304 647 Z ,  B08B 3/08 Z ,  G02F 1/13 101 ,  G02F 1/1333 500 ,  H01L 21/308 G
Fターム (23件)：
2H088FA21 ,  2H088FA30 ,  2H088HA01 ,  2H088MA20 ,  2H090JC19 ,  3B201AA02 ,  3B201AA03 ,  3B201AB01 ,  3B201BB04 ,  3B201BB05 ,  3B201BB82 ,  3B201BB92 ,  3B201BB93 ,  3B201BB96 ,  3B201CB01 ,  3B201CC21 ,  3B201CD22 ,  3B201CD42 ,  3B201CD43 ,  5F043BB27 ,  5F043DD30 ,  5F043EE23 ,  5F043EE27
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (3件)

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