特許
J-GLOBAL ID：200903079787087850
プレーナーマグネトロンスパッタリング装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
八木田 茂 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-346438
公開番号（公開出願番号）：特開2001-164362
出願日： 1999年12月06日
公開日（公表日）： 2001年06月19日
要約：
【要約】【課題】ターゲットの利用効率を向上させると同時に膜質の劣化を防止できるプレーナーマグネトロンスパッタリング装置を提供する。【解決手段】磁石組立体が移動方向に対して平面上で直交する方向に延び、その両端部分を磁石組立体の長手方向軸線に対して非線対称形状となるように屈曲させて形成したことを特徴とする。
請求項（抜粋）：
スパッタリングされることになるターゲットの表面にプラズマを閉じ込めるためターゲットの背後に設けられ、ターゲットの表面に平行にのびる一つの軸線方向に沿って移動できるように構成された磁石組立体を備えているプレーナーマグネトロンスパッタリング装置において、磁石組立体が移動方向に対して平面上で直交する方向に延び、その両端部分が磁石組立体の長手方向軸線に対して非線対称形状となるように屈曲させて形成されていることを特徴とするプレーナーマグネトロンスパッタリング装置。
Fターム (4件)：
4K029CA05
, 4K029DC42
, 4K029DC43
, 4K029DC46
