特許
J-GLOBAL ID:200903079824508861
疎水化シリカ組成物
発明者:
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出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-156938
公開番号(公開出願番号):特開2004-359476
出願日: 2003年06月02日
公開日(公表日): 2004年12月24日
要約:
【課題】樹脂粉末に添加した際に分散性が高いため、シリカ微粉末が樹脂粉末に対してスペーサーとして有効に働き、且つ、樹脂内部に埋没することなく長期にわたり流動性を付与する効果が高い疎水化されたシリカ組成物を提供する。【解決手段】平均粒子径0.05〜1μmのシリカ微粉末(A)とヒュームドシリカ(B)との疎水化された混合物よりなり、該混合物中に占めるヒュームドシリカ(B)の割合R%が式(1)に示す範囲内にあり、且つ、710μm以上の凝集粒子の含有量が200ppm以下であることを特徴とする疎水化シリカ組成物であり、特にトナー用の外添剤として有用である。。3/(d+0.03)≦R≦40/(d+0.4) ・・・ (1)(但し、dはシリカ微粉末(A)の平均粒子径(単位:μm))【選択図】 なし
請求項(抜粋):
平均粒子径0.05〜1μmのシリカ微粉末(A)とヒュームドシリカ(B)との疎水化された混合物よりなり、該混合物中に占めるヒュームドシリカ(B)の割合R%が式(1)に示す範囲内にあり、且つ、710μm以上の凝集粒子の含有量が200ppm以下であることを特徴とする疎水化シリカ組成物。
3/(d+0.03)≦R≦40/(d+0.4) ・・・ (1)
(但し、dはシリカ微粉末(A)の平均粒子径(単位:μm))
IPC (2件):
FI (2件):
C01B33/18 C
, G03G9/08 375
Fターム (20件):
2H005AA08
, 2H005CA26
, 2H005CB13
, 2H005DA05
, 2H005EA05
, 2H005EA07
, 2H005EA10
, 4G072AA41
, 4G072BB05
, 4G072CC16
, 4G072CC18
, 4G072GG02
, 4G072HH14
, 4G072HH17
, 4G072HH29
, 4G072MM02
, 4G072QQ07
, 4G072TT04
, 4G072TT30
, 4G072UU30
引用特許:
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